原理

XRF 用 X光照射待分析樣品，樣品中的元素內(nèi)層電子被擊出后，造成核外電子的躍遷，在被激發(fā)的

電子返回基態(tài)的時候，會放射出特征 X 光；不同的元素會放射出各自的特征 X 光，具有不同的能量

或波長特性。

儀器技術(shù)參數(shù)

X射線管靶： 銠靶（Rh）,X射線管壓： 60kv(Max), X射線管壓： 150mA(Max)

檢測元素范圍：4Be～92U,檢測濃度范圍：10-6～*, zui小分析微區(qū)：直徑250μｍ

zui大掃描速度：300&ordm/min

送樣要求

固體粉末：均勻干燥，粒度小于70um（過200目），質(zhì)量不少于100 mg；

塊體、金屬及薄膜樣品：需加工出一平整的表面，尺寸約為20mm×10mm×2mm

應(yīng)用領(lǐng)域

電子、磁性材料領(lǐng)域：用來研究半導體、磁光盤、磁性材料、電池、線路板、電容囂等；化學工業(yè)領(lǐng)

域：可用來研究無機、有機制品、化學纖維　催化劑、涂料、顏料、藥品　、化妝品、洗滌劑、橡

膠、調(diào)色劑等成分；鋼鐵、有色金屬領(lǐng)域：可用來研究和測定各種合金成分；陶瓷、水泥領(lǐng)域：可用

來測定水泥、水泥原料、陶瓷、熟料、石灰石、粘土、玻璃、耐火材料、巖石等；農(nóng)業(yè)、食品工業(yè)中

可用來檢測中土壤、肥料、植物、食品等。

常見適用標準

GBT 18043-2008 首飾 貴金屬含量的測定 X射線熒光光譜法

GBZ 21277-2007 電子電氣產(chǎn)品中限用物質(zhì)鉛、汞、鉻、鎘和溴的快速篩選