光催化氧處理設(shè)備
光催化氧化是指在一定波長光照條件下,半導體材料發(fā)生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結(jié)合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機物大分子降解為二氧化碳或其他小分子有機物以及水,在反應過程中這種半導體材料也就是光催化劑本身不發(fā)生變化。
當化學物質(zhì)通過吸收能量(如熱能、光子能量等)，可以使自身的化學性質(zhì)變得更加活躍甚至被裂解。當吸收的能量大于化學鍵鍵能，即可使得化學鍵斷裂，形成游離的帶有能量的原子或基團。當波段內(nèi)的真空紫外線(波長范圍內(nèi)184.9nm-253.7nm)，促使有機廢氣物質(zhì)通過吸收該波段的光子，而該波段的光子能量大于絕大多數(shù)的化學鍵鍵能，使得有機物質(zhì)得以裂解；再通過裂解產(chǎn)生的臭氧將其氧化成簡單、無害、穩(wěn)定的物質(zhì)，如H2O和CO2等。
光催化氧處理設(shè)備
適用范圍：
適用于煉油廠、家俱廠、噴漆噴塑烤漆、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站、屠宰廠等惡臭氣體的脫臭凈化處理。
設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量
（1）凈化效率高、運行穩(wěn)定；
（2）結(jié)構(gòu)緊湊、新穎、體積小、重量輕、模塊化結(jié)構(gòu)設(shè)計；
（3）噪聲小于45db(A)、風阻小于300 Pa;
（4）運行成本低、耗電功率小;
（5）清洗及維護方便、使用壽命長；
（6）安全可靠，價格合理。
（7）設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量。
