XENOS三坐標(biāo)測量機(jī)新型的機(jī)械設(shè)計(jì)基于經(jīng)過驗(yàn)證的ZEISS CenterMax,令人印象深刻。與標(biāo)準(zhǔn)橋式測量機(jī)不同：丫導(dǎo)軌 分布于側(cè)壁部，分離式移動行程軸僅 橫梁于丫軸方向移動，更小及恒定的移 動重量一一與移動式平臺相比堪稱 的勢。更低及恒定的移動重量造就了 加速及高速度的統(tǒng)一。

XENOS三坐標(biāo)測量機(jī)的所有軸均采用線性驅(qū)動。其點(diǎn)：高速、加速快、定位度高、驅(qū)動無剪切力影響結(jié)合超高分辨率光柵 尺技術(shù)，XENOS的線性驅(qū)動可獲得高 度穩(wěn)定性及低于結(jié)合超高分辨率光柵 尺技術(shù)，XENOS的線性驅(qū)動可獲得高 度穩(wěn)定性及低于100納米的高定位度。例如，測針偏移量越恒定，即可獲得更佳的測量度。于測量曲面時更顯見另一勢：測針的移動路徑與預(yù)定值越吻合，即可實(shí)現(xiàn)越出色的確性。

虛擬*驅(qū)動

于測量曲面時更顯見另一勢：測針的 移動路徑與預(yù)定值越吻合，即可實(shí)現(xiàn)越 出色的確性。虛擬*驅(qū)動XENOS 于丫軸向配備雙線性驅(qū)動系統(tǒng)，得益于 蔡司新的*驅(qū)動技術(shù)可實(shí)現(xiàn)異 的同步控制。該技術(shù)可據(jù)X軸位置 分布驅(qū)動力作為新控制系統(tǒng)及算法 之結(jié)合，這是在整個測量范圍內(nèi)獲 得異的測量度及運(yùn)動穩(wěn)定性的關(guān) 鍵因素。

碳化硅陶瓷

XENOS于丫軸向配備雙線性驅(qū)動系統(tǒng)，得益于蔡司新的*驅(qū)動技術(shù)可實(shí) 現(xiàn)異的同步控制。該技術(shù)可據(jù)X軸位 置分布驅(qū)動力作為新控制系統(tǒng)及算法之結(jié)合，這是在整個測量范 圍內(nèi)獲得異的測量度及運(yùn)動穩(wěn)定性的關(guān)鍵因素。碳化硅陶瓷XENOS在 與度密切相關(guān)的機(jī)器部件上采用創(chuàng)新的碳化硅陶瓷材料。迄今為止，該材料從未在類似產(chǎn)品或度的測量機(jī)器上得到使用與常規(guī)陶瓷相比，碳化硅陶瓷的熱膨脹性降低約50%,而剛性則可大提升30°%,同時減重20°%。