電弧離子鍍膜設(shè)備 LZD1300產(chǎn)品概述
1、功能：適用于各種金屬與非金屬表面鍍制金屬膜層（金、銀、銅、鋁、鉻、鋯、鈦等）、合金膜層（鈦鋁、鎳鉻、鉻鋁等）、化合物膜層（TiN、TiC、TiNC、CrN、TiAlN等）、多層復(fù)合膜等。因其無(wú)污染，潔凈環(huán)保，廣泛應(yīng)用于餐具、五金產(chǎn)品、工藝品、衛(wèi)浴產(chǎn)品、板材、貨架等各種裝飾、功能涂層等領(lǐng)域。
2、產(chǎn)品特點(diǎn)：電弧離子鍍膜設(shè)備是采用冷陰極自持弧光放電，瞬間使鍍膜材料受熱蒸發(fā)，靶材離子及原子等高速運(yùn)動(dòng)到基材表面沉積膜層的鍍膜原理，是具有沉積速率快，離化率高等特點(diǎn)的鍍膜設(shè)備，膜層光亮致密，我公司自主開(kāi)發(fā)全自動(dòng)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)一鍵化操作；適合產(chǎn)品涂層鍍膜的穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。
電弧離子鍍膜設(shè)備 LZD1300技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào) | LZD1300 |
| 真空腔室尺寸 | Φ1300×H1200mm |
| 真空系統(tǒng) | 國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口分子泵/擴(kuò)散泵+羅茨泵+機(jī)械泵高真空系統(tǒng) |
| 極限真空 | 優(yōu)于2.0×10-4Pa |
| 抽速 | 從大氣到3.3×10-3Pa≤30min，升壓率關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度≤10Pa |
| 工件架尺寸 | 12-24工位可選 |
| 工件烘烤溫度 | 室溫～200℃，可調(diào)可控（PID控溫） |
| 配置 | 弧源（柱弧、圓?。?、離子源、偏壓 |
| 系統(tǒng) | 全自動(dòng)控制系統(tǒng)，個(gè)性化的Tech-Coating控制菜單，安全保護(hù)系統(tǒng) |
| 占地面積 | 長(zhǎng)×寬：4m×3m |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來(lái)，一直專(zhuān)注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)，距離未來(lái)的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機(jī)加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個(gè)中試生產(chǎn)車(chē)間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時(shí)建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶(hù)的開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室。公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專(zhuān)家、教授作為本公司的技術(shù)顧問(wèn)，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強(qiáng)的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計(jì)概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
