高真空磁控濺射鍍膜機 JCP350設(shè)備概述
1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產(chǎn)品特點/用途：
? 設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；
? 可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等；
? 鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；
? 單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
高真空磁控濺射鍍膜機 JCP350技術(shù)參數(shù)
| 型號 | JCP350 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式上開蓋結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，氣動提開式 |
| 真空腔室尺寸 | Φ350×H350mm |
| 加熱溫度 | 室溫～500℃ |
| 濺射方式 | 向上濺射 |
| 旋轉(zhuǎn)基片臺 | Φ120mm |
| 膜厚不均勻性 | Φ75mm范圍內(nèi)≤±5.0% |
| 濺射靶/蒸發(fā)電極 | Φ2英寸磁控靶2支，兼容DC/RF濺射 |
| 工藝氣體 | 2-3路氣體流量控制 |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統(tǒng) |
| 占地面積 | （主機）L1600×W800×H1920mm |
| 總功率 | ≥8KW |
北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來，一直專注于真空設(shè)備的研發(fā)、設(shè)計、制造，是一家集真空薄膜新材料沉積設(shè)備、真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備等相關(guān)設(shè)備及其工藝的研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售、服務(wù)于一體的*。
公司的研發(fā)中試孵化基地位于毗鄰雄安新區(qū)的任丘經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，距離未來的雄安高鐵站約20公里，占地面積20000㎡,不僅建有包括機加工、電氣、結(jié)構(gòu)組裝，調(diào)試等多個中試生產(chǎn)車間和辦公樓以及其它輔助廠房；同時建有研發(fā)工藝、服務(wù)客戶的開放實驗室。公司還聘請了國內(nèi)外真空行業(yè)zi深的專家、教授作為本公司的技術(shù)顧問，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高水平，始終保持較強的自主研發(fā)能力、*的設(shè)計概念、領(lǐng)xian的技術(shù)優(yōu)勢。
