PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺臺式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn)，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。
產(chǎn)品特色
負(fù)載循環(huán)控制，模擬功率控制
處理機(jī)存儲
水冷底座
減少污水排放
安全保護(hù)設(shè)計
操作簡便 維護(hù)方便
應(yīng)用范圍：
混合電路板制造中基片的清洗
打線工藝前清洗電子部件，提高其可靠性
錫焊或焊接工藝前,關(guān)鍵性鍍金部件的清洗
清洗半導(dǎo)體元器件
光刻膠去膠
上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準(zhǔn)備
鍍膜前對光學(xué)器件清洗
清洗石英、藍(lán)寶石及其它材料
適用工藝：
打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊；
去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環(huán)氧殘留物；
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學(xué)部件、清洗半導(dǎo)體表面、清洗鍍銀部件；
塑膠密封劑去除--失效模式分析
型號 | PPC862 | PPC973 |
反應(yīng)艙尺寸(H*W*D) | 203mm x 152 mm x 50mm | 229 x 178 x 76 mm |
冷卻面(H*W) | 203 mm x 152 mm | 229 mm x 178 mm |
反應(yīng)艙 | 方形艙體 | 方形艙體 |
反應(yīng)艙材質(zhì) | 派熱克斯玻璃&鋁材 | 派熱克斯玻璃&鋁材 |
水冷式 | 水冷裝置 | 水冷裝置 |
負(fù)載比 | 10%至連續(xù)性 | 10%至連續(xù)性 |
標(biāo)準(zhǔn)流量 | 5cu-ft./Hr.@STP | 5cu-ft./Hr.@STP |
頻率(GHz) | 2.45 GHz | 2.45 GHz |
功率(Watts) | 100至750之間調(diào)節(jié) | 100至750之間調(diào)節(jié) |
重量 (Kg) | 29.5kg | 38.5kg |
真空泵系統(tǒng) | 抽氣速率3.8cfm/分 | 抽氣速率3.8cfm/分 |
| 產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 微波等離子清洗機(jī) 2.45GHz等離子清洗機(jī) 等離子去膠機(jī) 等離子清洗機(jī) 等離子刻蝕機(jī) |
