徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200性能 | ||
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• *重現(xiàn)結(jié)果:運(yùn)行自動(dòng)化的進(jìn)程,并協(xié)助參數(shù)設(shè)置 • 小巧緊湊:設(shè)計(jì)緊湊,占地面積小節(jié)省了實(shí)驗(yàn)室空間 • 容易清洗:具備可拆卸門、卷簾、內(nèi)部屏蔽、光源、 載物臺(tái) • 操作簡便:直觀的觸摸屏和一鍵式操作 | ||
徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200技術(shù)參數(shù) | ||
可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式, 可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化) | ||
*設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可準(zhǔn)確控制碳膜厚度 | ||
可選石英膜厚檢測(cè)器,準(zhǔn)確控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm | ||
全自動(dòng)程序控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等過程 | ||
觸摸屏控制,簡單方便 | ||
真空度≤7x10-3mbar | ||
濺射電流:0-150mA可調(diào) | ||
方形樣品倉創(chuàng)新設(shè)計(jì),樣品倉尺寸:140mm(寬)x145mm(深)x150mm(高) | ||
工作距離調(diào)節(jié)范圍:30-100mm |
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