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全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng) CRF-APO- 500W-XN

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市誠峰智造有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CRF-APO- 5
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2022/8/15 15:03:15
  • 訪問次數(shù)178
產(chǎn)品標簽:

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深圳市誠峰智造有限公司(phone:13632675935  http://www.sfi-crf.com)是一家專業(yè)致力于提供等離子設(shè)備及工藝流程解決方案的*。中國香港、中國臺灣、深圳、蘇州、天津、成都、昆山、珠海設(shè)立八大銷售及客戶中心,銷售及客戶網(wǎng)絡(luò)遍布,擁有國內(nèi)外銷售及客服團隊。源于美國&德國30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術(shù),公司全資擁有CRF品牌下等離子設(shè)備的研發(fā),生產(chǎn),制造技術(shù),設(shè)備范圍涵蓋半導(dǎo)體,光伏光電,太陽能,PCB&FPCB等行業(yè)。

等離子清洗機,等離子表面處理機,電漿機,plasma設(shè)備,等離子設(shè)備
產(chǎn)品特點●全自動等離子體清洗機應(yīng)用于FPCPCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理;●設(shè)計的內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;●靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上
全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng) CRF-APO- 500W-XN 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品特點

● 全自動等離子體清洗機應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理;

● 設(shè)計的內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;

● 靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

 

全自動等離子處理系統(tǒng)等離子體清洗機廠家等離子清洗技術(shù)具體應(yīng)用:
1、高厚徑比的雙層軟性板去膠渣、硬軟融合板去膠渣改善孔邊與鍍銅層的粘接抗壓強度,去除膠渣提升可靠性,避免里層鍍銅后造成開路。
2、高頻率沉銅特氟龍板前孔壁表層改性活性改善該孔壁與鍍銅層結(jié)合力,避免了黑孔、爆孔狀況。阻焊和字符前板活化有效地避免阻焊字符脫落。
3、HDI板上laser的通孔、盲/埋孔消除激光器燒灼的碳合物。不受孔徑的規(guī)格規(guī)定,直徑低于50μm的微孔板實際效果更加顯著。
4、等離子體清洗機在細致制線時,除去干膜的薄膜殘余。
5、硬軟板復(fù)合型壓合前PI表層鈍化處理,柔性線路板加固前PI表層粗化處理抗拉力值可提升超出十倍。
6、化學(xué)沉金/電鍍工藝前手指、焊盤表層清理消除阻焊油墨以及其它殘渣,改進密著性。因為其可靠性,一些很大的軟性板材加工廠已選用等離子全自動設(shè)備替代了傳統(tǒng)式的磨板機。
7、化學(xué)沉金/電鍍后,SMT前焊盤表層清除改進了可焊接性,避免了SMT前虛焊空焊率、上錫率低,提高了強度。
8、PCB板BGA封裝前表層的清洗,打金線的預(yù)處理,EMC的預(yù)封裝生產(chǎn)加工改走線/連線強度。
9、液晶LCD行業(yè)模組板清除金手指空氣氧化及壓合保護膜過程中的污染如漏膠等,偏光片貼合前清洗表層。
10、IC半導(dǎo)體材料行業(yè)半導(dǎo)體材料拋光片(Wafer),對氧化薄膜、有機化合物的除去;加工工藝過程中的COB/COG/COF/ACF等外部污染物的清潔,提升了密著性和可靠性。
11、LED行業(yè)打線Wire前焊盤面清洗,有機化合物除去。
12、和PTFE一樣,塑膠、玻璃、瓷器和聚丙稀也沒有機性的,因此這種材料需要在印刷、點膠前開展等離子處理。玻璃和瓷器表層也是有輕度的金屬材料污染可使用等離子體清洗機,硅膠類功能鍵連接器,聚合物表層改性可提高印刷及其涂層附著力。

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名稱(Name)

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(Model)

CRF-APS-500W-XN

電源(Power supply)

380V/AC,50/60Hz

等離子功率(Power)

10KW(Max)/ 40KHz(Option)

有效處理高度(Processing height)

3-8mm(MAX)

有效處理寬幅(Processing width)

120-1200mm(Option)

處理速度(Processing speed)

0-8m/min

工作氣體(Gas)

N2/N2+CDA

 

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