UV光氧催化設(shè)備應(yīng)用光激起氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相分離。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，能夠用于處置污水中CHCl3、CCl4、多氯聯(lián)苯等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng)，等離子光氧催化設(shè)備型號，使H2O2合成產(chǎn)生羥基自在基的速率大大加快，促進(jìn)有機(jī)物的氧化去除。

自然具有非常強(qiáng)大的自我修復(fù)功用，等離子光氧催化設(shè)備廠家， 例如排放在大氣中的廢氣物質(zhì)，經(jīng)過一段時間廢氣物質(zhì)會漸漸被合成掉，其中主要的過程是發(fā)作了光化學(xué)反響。廢氣物質(zhì)經(jīng)過吸收光子或其他粒子的能量，使得化學(xué)鍵斷裂，構(gòu)成游離態(tài)的原子，再經(jīng)過一系列的氧化復(fù)原等反響，終生成 H 2 O 和 CO 2 等簡單物質(zhì)。

UV光氧催化設(shè)備產(chǎn)品特性

一、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99.9%以上，脫臭效果大大超越 1993年公布的惡臭污染物排放規(guī)范（GB14554-93）。

二、無需添加任何物質(zhì)：只需求設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使惡臭氣體經(jīng)過本設(shè)備停止脫臭合成凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反響。，

三、順應(yīng)性強(qiáng)：可順應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處置，可每天24小時連續(xù)工作，運轉(zhuǎn)穩(wěn)定牢靠。

四、運轉(zhuǎn)本錢低：本設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，只需電費，沒有其他耗材。

五、無需預(yù)處置：惡臭氣體無需停止特殊的預(yù)處置，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。

六、設(shè)備占空中積小，自重輕：合適于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設(shè)備占空中積＜1平方米/處置10000m3/h風(fēng)量。

七、資料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，運用壽命長。

八、環(huán)?？萍籍a(chǎn)品：采用技術(shù)理念，經(jīng)過專家及我公司工程技術(shù)人員長期重復(fù)的實驗，開發(fā)研制出的，具有 自主學(xué)問產(chǎn)權(quán)的高科技環(huán)保凈化產(chǎn)品，可 合成惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能到達(dá)的脫臭效果，經(jīng)合成后的惡臭氣體，可 到達(dá)無害化排放，絕不產(chǎn)生二次污染，同時到達(dá) 消毒殺菌的作用。