FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生*的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。
FEI SEM Apreo 掃描電子顯微鏡受益于的透鏡內(nèi)背散射探測，這種探測提供的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾?？蛇x低真空模式，現(xiàn)在的zui大樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求zui嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。
通過這些優(yōu)勢（包括復(fù)合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應(yīng)對未來的研究難題。
*的復(fù)合末級透鏡可在任何樣品（甚至在傾斜時貌起伏大）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進(jìn)行電子束減速。
作用極大的背散射探測始終可保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時也不例外。
無比靈活的探測器可將各個探測器分割提供的信息相結(jié)合，讓用戶能夠獲得至關(guān)重要的對比或信號強(qiáng)度。
各種各樣的電荷緩解策略，包括倉室壓力zui高為 500 Pa 的低真空模式，可實(shí)現(xiàn)任何樣品的成像。
的分析平臺提供高電子束電流，而且束斑很小。倉室支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析而優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
樣品處理和導(dǎo)航極容易，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
