標題：供應德國Heidelberg Instruments刻蝕機 DWL 2000 GS系列
德國Heidelberg Instruments刻蝕機公司介紹：
德國Heidelberg 刻蝕機海德堡儀器是設計、開發(fā)和制造高精度激光光刻系統、無掩模對準器和納米加工工具的世界領導*。憑借超過 35 年的經驗和在*球安裝的 1,300 多套系統， 海德堡儀器 提供專門定制的光刻解決方案，以滿足我們**客戶的微加工和納米加工要求 - 無論多么具有挑戰(zhàn)性。在我們位于德國、瑞士和中國的過程和應用實驗室 (PAL) 中，工程師們對我們的客戶進行培訓并與他們密切合作，以充分利用他們的海德堡儀器設備。 行業(yè)利益相關者，以及世界各地最的大學和研究機構的工作組，都使用海德堡儀器的系統進行的微米和納米圖案化。應用領域包括微光學和微系統技術、光子學、電子學、半導體/封裝、量子計算、MEMS/NEMS、微機械學、生物醫(yī)學工程、二維材料、物聯網等等。
Heidelberg Instruments刻蝕機介紹：
德國Heidelberg 刻蝕機DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統是快速靈活的高分辨率圖案生成器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，專為集成電路、MEMS、微光學和微流體設備、傳感器、全息圖以及**特征的掩模和晶圓的高通量圖案化而設計。專業(yè)灰度光刻模式可以在大面積厚光刻膠中形成復雜的 2.5D 結構圖案。DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系統具有 500 nm 的最小特征尺寸、高達 400 x 400 mm 2的寫入區(qū)域和可選的自動加載系統，特別適用于用于電信、照明的晶圓級微光學器件和工業(yè)顯示器制造，以及生命科學中的設備制造。
Heidelberg Instruments刻蝕機功能參數特點：
2 曝光質量
2 CD 均勻性 60 nm；邊緣粗糙度 40 納米；對準精度 60 nm；第二層對準 250 nm；自動對焦補償 80 µm
2 灰度光刻
2 1000級灰度；專用 GenISys BEAMER 軟件，用于優(yōu)化復雜幾何形狀的曝光
2 溫控流動箱
2 溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°，ISO 4 環(huán)境
2 曝*速度
2 灰度模式下 200 x 200 mm 2 的面積<60 分鐘
2 基板尺寸大
2 高達 20 / 40 厘米
Heidelberg Instruments刻蝕機應用：
2 微光學
2 材料科學
2 微流體等
Heidelberg Instruments刻蝕機主要型號：
2 DWL 2000 GS 系列
2 DWL 4000 GS 系列
