接觸電阻率和薄層電阻 TLM-SCAN+ 多功能太陽(yáng)電池柵線接觸電阻測(cè)試儀
接觸電阻率和薄層電阻 TLM-SCAN+
前金屬化的接觸電阻是對(duì)絲網(wǎng)印刷太陽(yáng)能電池的總串聯(lián)電阻的重要貢獻(xiàn)。 具有合適測(cè)試結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移長(zhǎng)度方法是將接觸電阻與其他串聯(lián)電阻效應(yīng)分開(kāi)的較佳方法。 然而，接觸電阻可以在太陽(yáng)能電池上顯著變化，因此需要在成品太陽(yáng)能電池上以空間分辨率測(cè)量它的方法。 TLM-SCAN產(chǎn)生太陽(yáng)能電池的接觸電阻率的映射，該太陽(yáng)能電池用激光或切割鋸切割成條紋。
右側(cè)的映射顯示了分辨率和可重復(fù)性，因?yàn)樗@示了14次測(cè)量的相同條帶。
接觸電阻率測(cè)量?jī)x
這款緊湊型儀器測(cè)量成品太陽(yáng)能電池的接觸電阻率，手指線電阻，手指寬度和手指高度，或者測(cè)試結(jié)構(gòu)。
通過(guò)在所有軸上電動(dòng)化，可以通過(guò)按一個(gè)按鈕來(lái)創(chuàng)建所有這些方法的地圖。
用于測(cè)量薄擴(kuò)散層的薄層電阻和晶圓電阻率的四點(diǎn)探頭，使得TLM-SCAN 成為一種低成本，快速，高質(zhì)量的四點(diǎn)探針貼圖儀。
使操作更簡(jiǎn)單的功能：
自動(dòng)位置校正以獲得較佳接觸質(zhì)量
蓋子關(guān)閉時(shí)自動(dòng)啟動(dòng)
自動(dòng)采樣編號(hào)
軟件探頭識(shí)別
精確的導(dǎo)航與歡樂(lè)棒和顯微鏡相機(jī)
通過(guò)點(diǎn)擊圖像來(lái)探測(cè)定位和重新測(cè)量單點(diǎn)
多功能太陽(yáng)電池柵線接觸電阻測(cè)試儀
晶體硅太陽(yáng)能電池的表面金屬歐姆接觸的好壞通過(guò)接觸電阻來(lái)反映。在太陽(yáng)能電池電極優(yōu)化中，接觸電阻是需要考量的一個(gè)重要方面。接觸電阻的大小不僅與接觸的圖形有關(guān)，還與擴(kuò)散工藝及接觸形成工藝有關(guān)。不同柵線圖形的歐姆接觸好壞可以通過(guò)接觸電阻率的大小來(lái)反映。因此，通過(guò)對(duì)接觸電阻率的研究計(jì)算可以反映擴(kuò)散、電極制作和燒結(jié)等工藝中存在的問(wèn)題。但現(xiàn)在的測(cè)量方法存在測(cè)量時(shí)間長(zhǎng)、效率低、精度差等缺陷，而又同時(shí)缺少一種專(zhuān)門(mén)測(cè)量太陽(yáng)能電池接觸電阻的測(cè)試設(shè)備，因此不利于太陽(yáng)能電池接觸電阻測(cè)量在產(chǎn)線上的應(yīng)用。本技術(shù)成果采用TLM法測(cè)量接觸電阻，結(jié)合電機(jī)平臺(tái)、攝像頭及計(jì)算機(jī)控制等技術(shù)已基本能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)測(cè)量和結(jié)果分析計(jì)算等功能。
市場(chǎng)預(yù)測(cè)：本技術(shù)成果可應(yīng)用于電池生產(chǎn)廠家、銀漿生產(chǎn)廠家等與電池柵線工藝有關(guān)的企業(yè)，以便快速測(cè)量柵線接觸電阻檢測(cè)改進(jìn)工藝。目前還沒(méi)有成熟的本類(lèi)產(chǎn)品，如能及早開(kāi)發(fā)及產(chǎn)業(yè)化推廣，本技術(shù)開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品將在市場(chǎng)上占得先機(jī)。目前，實(shí)驗(yàn)室已制備出可以應(yīng)用的樣機(jī)，某些銀漿生產(chǎn)廠家已試用過(guò)并以測(cè)量結(jié)果作為參考改進(jìn)產(chǎn)品。
一個(gè)樣品上多個(gè)TLM測(cè)試圖案的批處理模式
序列模式通過(guò)按一個(gè)按鈕來(lái)測(cè)量接觸電阻率和手指幾何圖形的映射
Contact resistivity and more
Contact resistivity and sheet resistance
The contact resistance of the front metallization is an important contribution to the total series resistance of screen-printed solar cells. The transfer length method with a suitable test structure is the best method to separate the contact resistance from other series resistance effects. However, the contact resistance may vary considerably over the solar cell so a method to measure it with spatial resolution on the finished solar cell is necessary. The TLM-SCAN creates mappings of the contact resistivity of a solar cell that is cut into stripes with a laser or a dicing saw.
The mapping on the right demonstrates the resolution and repeatabilty as it shows the same stripe measured 14 times
