控溫型智能程控勻膠機機身結(jié)構： 整機為不銹鋼設計，耐酸堿，抗沖擊，抗腐蝕，面板按鍵為不銹鋼防水設計，使整個機身堅固耐用，清洗方便?？刂骑@示：設備配置 3.5 英寸全彩觸摸屏，中文操作界面，操作簡單、快捷，勻膠模式： 用戶可通過觸摸屏對工藝參數(shù)進行設置存儲，不同參數(shù)可隨意調(diào)出，系統(tǒng)支持多工藝組存儲，多段速運行。
控溫型智能程控勻膠機產(chǎn)品特點：
1.帶進膠保護與報警;
2.旋涂正反轉(zhuǎn)可自由切換;
3.帶速度上升曲線實時顯示;
4.吸附不足報警與互鎖;
5.旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕;
6.腔室?guī)С閺U氣功能;
7.配方帶掉電保護功能;
8.加熱溫度：室溫–200℃;
控溫型智能程控勻膠機技術參數(shù)：
1)基片尺寸：5-200mm
2)速度范圍：1-12000RPM
3)轉(zhuǎn)速精度：1RPM
4)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定度：±0.1%
5)加速度范圍：1-10000RPM/S
6)旋轉(zhuǎn)方向：正反轉(zhuǎn)可切換
7)涂膠均勻性：±1%
8)溫控范圍：室溫-200℃
9)人機界面：8寸觸摸屏
10)參數(shù)設置：無限組數(shù)據(jù)，每組15段轉(zhuǎn)速(標配)或無數(shù)段轉(zhuǎn)速(選配)
11)每段時間：0-10000秒
12)存儲數(shù)據(jù)：無限組數(shù)據(jù)
13)通信接口：USB(標配)/RS232(選配)/RS485(選配)/RJ45(選配)
14)觸控筆：BAMBOO電阻筆(標配)
15)真空泵：AP-550V無油泵/FY油泵
16)勻膠機交流供電口：AC100-250V
17)真空泵交流供電口：AC220V(標配) AC110V(選配)
18)勻膠機功率：650W
19)真空泵功率：350W
20)真空泵抽速：≥60L/MIN
21)勻膠機體積：340mm(W)X500mm(D)X250mm(H)
22)勻膠機重量：18KG
23)泵重量：9KG
24)使用環(huán)境溫度：0-40℃
25)相對濕度：< 85%
26)放置于桌面，可通過自帶水平儀調(diào)節(jié)機器水平
勻膠機旋涂儀工作原理
勻膠過程介紹一個典型的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。
滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。
靜態(tài)滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，進而保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個基片上都涂到膠。
動態(tài)滴膠方式是在基片低速(通常在500轉(zhuǎn)/分左右)旋轉(zhuǎn)的同時進行滴膠，“動態(tài)”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開，減少光刻膠的浪費，采用動態(tài)滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下，動態(tài)滴膠尤其適用，不會產(chǎn)生針孔。
滴膠之后，下一步是高速旋轉(zhuǎn)。使光刻膠層變薄達到最終要求的膜厚，這個階段的轉(zhuǎn)速一般在1500-6000轉(zhuǎn)/分，轉(zhuǎn)速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度，溶劑揮發(fā)速度，固體含量以及表面張力等)以及基片的大小?？焖傩D(zhuǎn)的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉(zhuǎn)速以及勻膠時間往往能決定最終膠膜的厚度。
一般來說，勻膠轉(zhuǎn)速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以更好給予勻膠過程以足夠的時間，讓諸多影響因素達到平衡。
勻膠工藝中重要的一個因素就是可重復性。微細的工藝參數(shù)變化會帶來薄膜特性巨大的差異，下面對一些可變的因素進行分析：
旋轉(zhuǎn)速度:
勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中重要的因素?；霓D(zhuǎn)速(rpm)不僅影響到作用于光刻膠的離心力，
而且還關系到緊挨著基片表面空氣的湍動和基片與空氣的相對運動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉(zhuǎn)速所決定。尤其在高速旋轉(zhuǎn)這個階段，轉(zhuǎn)速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產(chǎn)生10%的偏差。
膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā)，粘度越來越大，直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點上，膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。
所有勻膠機規(guī)格要求在量程范圍內(nèi)無論選擇哪個速度勻膠轉(zhuǎn)速偏差不大于±1rpm。而通常實際偏差是±0.2rpm。而且，所有的控制程序和轉(zhuǎn)速顯示的分辨能力都是1rpm。
