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上海洪富儀器儀表有限公司
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更新時(shí)間:2022-07-11 11:54:01瀏覽次數(shù):876次
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HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將Z先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域,二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例,當(dāng)有氧存在時(shí)將zui先與二氧化硫發(fā)生反映,起到抗氧化的作用,進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵,并抑制其他雜菌。
• 基于微電腦控制技術(shù),集滴定分析,磁力攪拌和電極測(cè)量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單,可直接顯示測(cè)量結(jié)果
• 人性化設(shè)計(jì),具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當(dāng)殘留濃度超過(guò)2.0ppm時(shí),即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號(hào) | HI 84100 | ||||||||||||||||||
滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 | ||||||||||||||||||
滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||||||||||
滴定精度 | 讀數(shù)的5% | ||||||||||||||||||
取樣量 | 50 mL | ||||||||||||||||||
ORP電極 | HI 3148B | ||||||||||||||||||
供電方式 | 220V/60 Hz;10VA | ||||||||||||||||||
使用環(huán)境 | 0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% | ||||||||||||||||||
尺寸重量 | 208 × 214 × 163 mm;2200 g |
HI 84100 | 食品行業(yè)二氧化硫滴定分析測(cè)定,HI3148B電極,滴定試劑,相關(guān)附件,中英文手冊(cè) |
HI 70300L | 電極保存液 |
HI 7061L | 常規(guī)電極清洗液 ,500mL,瓶裝 |
HI 731318 | 比色皿清洗布,4塊每組 |
HI 3148B/50 | 二氧化硫滴定分析測(cè)定儀氧化還原(ORP)電極,范圍:0 to 400 ppm SO2 |
HI84100-50 | 二氧化硫滴定分析試劑,范圍:0 to 400 ppm SO2,類型:水劑,規(guī)格:110 ml |
HI84100-51 | 二氧化硫堿性滴定分析試劑,范圍:0 to 400 ppm SO2,類型:水劑,規(guī)格:500 ml |
HI84100-52 | 總二氧化硫酸性滴定分析試劑,范圍:0 to 400 ppm SO2,類型:水劑,規(guī)格:500 ml |
HI84100-53 | 游離二氧化硫堿性滴定分析試劑,范圍:0 to 400 ppm SO2,類型:水劑,規(guī)格:5 00 ml |
HI84100-54 | 二氧化硫滴定分析穩(wěn)定試劑,范圍:0 to 400 ppm SO2,類型:粉劑,規(guī)格:25袋 |
HI84100-55 | 二氧化硫滴定分析校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)液,范圍:0 to 400 ppm SO2,類型:水劑,規(guī)格:500 ml |
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