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更新時(shí)間:2023-06-17 09:27:07瀏覽次數(shù):122次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線北京吉天儀器有限公司主營(yíng):原子熒光光度計(jì),流動(dòng)注射分析儀ICP光譜儀是什么構(gòu)成的?一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成
北京吉天儀器有限公司主營(yíng):原子熒光光度計(jì),流動(dòng)注射分析儀
ICP光譜儀是什么構(gòu)成的?
一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分:
1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。
2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄?。該?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上,如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。
3. 色散元件: 通常采用光柵,使光信號(hào)在空間上按波長(zhǎng)分散成為多條光束。
4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束,使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像,其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長(zhǎng)。
5. 探測(cè)器陣列:放置于焦平面,用于測(cè)量各波長(zhǎng)像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測(cè)器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測(cè)器陣列。
ICP光譜儀的目標(biāo)元素
ICP光譜儀是上世紀(jì)60年代提出、70年代迅速發(fā)展起來(lái)的,它的迅速發(fā)展和廣泛應(yīng)用是與其克服了經(jīng)典光源和原子化器的局限性分不開(kāi)的,那么ICP光譜儀的目標(biāo)元素都有哪些呢?下面小編就來(lái)介紹一下:
ICP光譜儀軟質(zhì)樣品(例如:銅、鋁、鋅、鉛)必須車削表面或用酒精濕磨.磨好的表面一定不要玷污(例如用手觸摸).考慮到金屬熱漲冷縮效應(yīng),會(huì)影響光線穩(wěn)定性.溫度變化會(huì)影響儀器的熱平衡,對(duì)和一些電器件會(huì)造成不穩(wěn)定,若溫差較大對(duì)光路也會(huì)有影響.
ICP光譜儀對(duì)于鋼和鑄鐵(顆粒大小,對(duì)鋼是60到80之間,對(duì)鑄鐵是40到60之間),建議用適合于本儀器樣品的砂紙干磨.砂紙一定不要被高合金含量的樣品污染(例如:應(yīng)該先用于低合金樣品,再用于高合金樣品).樣品必須在清潔的、規(guī)范的砂紙上磨(沒(méi)有先前激發(fā)處理留下的激發(fā)的痕跡).樣品表面不能被拋光(適時(shí)更新用過(guò)的砂紙).必須確保樣品在磨的過(guò)程中沒(méi)有過(guò)熱(樣品應(yīng)該與砂紙只有短暫的接觸)。如果需要,樣品應(yīng)該用水冷卻,再干燥,再盡可能短的時(shí)間干磨.
ICP光譜儀可用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“真實(shí)濃度"與分析線對(duì)和強(qiáng)度比(R)擬合工作曲線(校準(zhǔn)曲線)。如果鐵含量變化過(guò)大,如高、中合金鋼,其影響不可忽略,需要用標(biāo)樣中目標(biāo)元素的“相對(duì)濃度"(或“濃度比")與分析線對(duì)和強(qiáng)度比(R)擬合工作曲線,這就是我國(guó)光譜分析的前輩講的“誘導(dǎo)含量法"。如果希望用同一工作曲線同時(shí)分析高、中、低合金鋼,那就都要用“相對(duì)濃度"來(lái)校正基體含量的影響。更進(jìn)一步,如果既要校正基體含量的影響,又要校正共存元素的干擾,就應(yīng)該用“表觀濃度"來(lái)擬合工作曲線。
ICP光譜儀雖然本身測(cè)量準(zhǔn)確度很高,但測(cè)定試樣中元素含量時(shí), 所得結(jié)果與真實(shí)含量通常不一致,存在一定誤差,并且受諸多因素的影響,有的材料本身含量就很低。
ICP光譜儀的來(lái)歷
ICP光譜儀在國(guó)內(nèi)的發(fā)展也不過(guò)幾十年的時(shí)間,不可謂短或長(zhǎng)。 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(簡(jiǎn)稱ICP光譜儀),因?yàn)榫哂懈哽`敏度,高精密度,低基體效應(yīng)和具有一起多元素剖析能力等一系列特色,自1975年呈現(xiàn)產(chǎn)品儀器以來(lái),很快在各剖析范疇得到廣泛應(yīng)用,變成資料、環(huán)境、地礦、冶金、食物、化工、生化、產(chǎn)品檢驗(yàn)及科研范疇通用的無(wú)機(jī)元素剖析東西。ICP光譜儀的構(gòu)造和技能也在不斷的改善和發(fā)展。1991年新的中階梯光柵固態(tài)檢測(cè)器ICP-OES儀器面世,即國(guó)內(nèi)所說(shuō)的全譜直讀電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀。1993年國(guó)外出產(chǎn)的該類儀器進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng),目前國(guó)內(nèi)還沒(méi)有制造商將全譜直讀電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產(chǎn)業(yè)化等離子體光譜與其它大型精密儀器一樣,需要在必定的環(huán)境下運(yùn)轉(zhuǎn),失掉這些條件,不僅儀器的運(yùn)用效果欠好,并且改動(dòng)儀器的檢查功能,乃至形成損壞,縮短壽數(shù)。依據(jù)光學(xué)儀器的特色,對(duì)環(huán)境溫度和濕度有必定請(qǐng)求。假如溫度改變太大,光學(xué)組件受溫度改變的影響就會(huì)發(fā)作譜線漂移,形成測(cè)定數(shù)據(jù)不穩(wěn)定,ICP光譜儀通常室溫請(qǐng)求維持在70~75攝氏度間的一個(gè)固定溫度,溫度改變應(yīng)小于±1攝氏度。濕度對(duì)高頻發(fā)作器的影響也十分重要,濕度過(guò)大,輕則等離子體不簡(jiǎn)單點(diǎn)著,重則高壓電源及高壓電路放毀組件,如功率管隔直陶瓷電容擊穿,輸出電路阻抗匹配、網(wǎng)絡(luò)中的可變電容放電等,以致?lián)p壞高頻發(fā)作器。ICP光譜儀通常室內(nèi)濕度應(yīng)小于百分之70,控制在百分之45~60之間,應(yīng)有空氣凈化設(shè)備。曩昔因?yàn)榛ㄊ┕?,我們的環(huán)境條件很差,乃至儀器室多次被水淹,受潮及室溫改變過(guò)大,儀器不是定位艱難即是常常發(fā)作毛病。搬到新的儀器室后條件改善了,儀器運(yùn)轉(zhuǎn)就正常多了 以上就是對(duì)ICP光譜儀的來(lái)歷和一些知識(shí)的介紹,希望對(duì)大家對(duì)認(rèn)識(shí)ICP光譜儀有所幫助。
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