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環(huán)保APP正式上線

小型等離子清洗機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2017/4/19 9:46:12
  • 訪問(wèn)次數(shù)585
產(chǎn)品標(biāo)簽:

清洗機(jī)等離子

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公司名稱(現(xiàn)用名):北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司
覆蓋區(qū)域:北京天津、河北

    北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司,原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國(guó)·首都北京密云經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),主體經(jīng)營(yíng)分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制淺藍(lán)納米科技三個(gè)部分,是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師,具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)同時(shí)還與北京工業(yè)大學(xué)聯(lián)合研發(fā)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學(xué)聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用,同時(shí)減少相關(guān)進(jìn)口設(shè)備的*,并力爭(zhēng)創(chuàng)造外匯,打出中國(guó)創(chuàng)造的!  

    我們的客戶遍布北京各高校研究院所、電力試驗(yàn)所、各級(jí)的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域*的實(shí)驗(yàn)室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

    您的滿意微笑是我們一直努力追求經(jīng)營(yíng)目標(biāo)!

技術(shù)創(chuàng)新、業(yè)務(wù)專業(yè)、服務(wù)誠(chéng)信是我們一直遵循的經(jīng)營(yíng)理念!

 

我們熱誠(chéng)歡迎國(guó)內(nèi)外*的儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開(kāi)展各層面的合作,打造成*的真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應(yīng)商。

ALD設(shè)備,PECVD設(shè)備
該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點(diǎn)外,更具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、清洗效率高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的優(yōu)點(diǎn)。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對(duì)設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇,不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。儀器性能、整機(jī)規(guī)格和清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實(shí)際需要而特制。
小型等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

整機(jī)尺寸:500×300×300(長(zhǎng)×寬×高)mm
整機(jī)重量:35 Kg
反應(yīng)艙規(guī)格:Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)
反應(yīng)艙有效容積:4.5 L
輸入電源:220 V/50Hz
整機(jī)輸入功率:400 W
射頻功率:0~150W(連續(xù)可調(diào))
射頻頻率:13.56 MHz
常用工作氣體:空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等

 

整機(jī)配備所以必須的指示儀表裝置及高性能真空泵,客戶僅需提供所以工作氣體!

操作相當(dāng)方便,維護(hù)成本極低??!

所有關(guān)鍵技術(shù)均為自行研發(fā)!非組裝產(chǎn)品!

 

功能:
• 對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進(jìn)行超清洗。
• 改變某些材料表面的性能。
• 使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性。
• 清除金屬材料表面的氧化層。
• 對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。

 

簡(jiǎn)介:
      國(guó)產(chǎn)系列等離子清洗(處理)器是一種非破壞性的表面處理設(shè)備,它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性*的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵*抽走,其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。

      在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗器既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗器現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
      國(guó)產(chǎn)系列等離子清洗器是在國(guó)外等離子清洗器價(jià)格貴,難以推廣等缺點(diǎn)的基礎(chǔ)上,吸取了現(xiàn)有國(guó)內(nèi)外等離子清洗器的優(yōu)點(diǎn),結(jié)合國(guó)內(nèi)用戶的使用需求,采用*科技手段開(kāi)發(fā)出的新型系列等離子清洗器。

      該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點(diǎn)外,更具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、清洗效率高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的優(yōu)點(diǎn)。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對(duì)設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇,不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。儀器性能、整機(jī)規(guī)格和清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實(shí)際需要而特制。


優(yōu)點(diǎn):
• 具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。 
• 對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行

   超清洗和改性。 
• **地清除樣品表面的有機(jī)污染物。
• 定時(shí)處理、快速處理、清洗效率

高。                             
• 高朋硅耐熱玻璃反應(yīng)倉(cāng)綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對(duì)樣品和環(huán)境無(wú)二次污染。
• 在常溫條件下進(jìn)行超清洗,對(duì)樣品非破壞性處理。

應(yīng)用領(lǐng)域:

 

• 光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
• 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
• 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
• 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
• 清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
• 高分子材料表面的修飾。
• 封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝及粘和。
• 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
• 涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強(qiáng)表

   面粘附性、浸潤(rùn)AAA性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
• 牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。
• 科研領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。

   對(duì)科研的消AA毒和殺菌。
   

 

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