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百級(jí)潔凈烘箱,封裝百級(jí)烘箱 工業(yè)烘箱

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  • 公司名稱上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
  • 品       牌雋思
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2023/5/1 9:32:02
  • 訪問(wèn)次數(shù)1536
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上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司(以下簡(jiǎn)稱“雋思儀器”)是一家專業(yè)從事儀器設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及服務(wù)的企業(yè)。主要生產(chǎn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備、環(huán)境模擬儀器設(shè)備、線纜試驗(yàn)機(jī)、橡塑試驗(yàn)檢測(cè)設(shè)備、黑蒜設(shè)備等的高新技術(shù)型企業(yè),具有很強(qiáng)的自主開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)能力,服務(wù)于電子、電力、通訊、環(huán)保、農(nóng)業(yè),建筑,節(jié)能等行業(yè);多年來(lái),公司以“真摯的服務(wù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)”為宗旨,為國(guó)內(nèi)外廣大用戶提供了周到的售前、售中、售后服務(wù)。贏得了國(guó)內(nèi)外客戶的*好評(píng),更為我們業(yè)務(wù)的快速發(fā)展奠定了一定的基礎(chǔ)。我們的服務(wù)也更精益求精,更完善!
 雋思儀器主要業(yè)務(wù)有HMDS預(yù)處理系統(tǒng),HMDS烘箱,潔凈烤箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦?,高溫?zé)o氧烘箱,真空無(wú)氧烘箱,無(wú)塵無(wú)氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),快速高低溫氣流儀,超低溫試驗(yàn)箱高低溫試驗(yàn)箱,高低溫交變濕熱箱定做,HMDS真空涂膠烘箱,低溫脆性檢測(cè)儀,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,導(dǎo)體直流電阻測(cè)試儀,電線電纜檢測(cè)儀器,真空烘箱,黑蒜試驗(yàn)機(jī),橡塑檢測(cè)試驗(yàn)機(jī)等。
    不斷追求技術(shù)進(jìn)步、提升專業(yè)服務(wù)能力,做一個(gè)專業(yè)的儀器設(shè)備供應(yīng)商是我們的發(fā)展目標(biāo)。企業(yè)內(nèi)部實(shí)施了CRM、ERP項(xiàng)目管理,在產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、質(zhì)量控制、集成供應(yīng)鏈、人力資源管理、財(cái)務(wù)管理等諸多方面取得了長(zhǎng)足發(fā)展。同時(shí)建立了標(biāo)準(zhǔn)化的服務(wù)流程,形成了覆蓋全國(guó)的快速服務(wù)網(wǎng)絡(luò),以盡心盡責(zé)的服務(wù)理念和完備的技術(shù)得到用戶的*稱贊。我們將珍視每一次與您合做的機(jī)會(huì),以飽滿的熱情、真誠(chéng)的服務(wù)與您共創(chuàng)燦爛的未來(lái)!





HMDS烘箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦?,高溫?zé)o氧烘箱,PI烤箱,真空無(wú)氧烘箱,無(wú)塵無(wú)氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),超低溫試驗(yàn)箱
工作電壓 380Vv 工作室尺寸 500mm
功率 5.5kw 設(shè)備重量 300kg
外形尺寸 1000mm 溫度范圍 200℃
材質(zhì) 304 溫度波動(dòng)度 1℃
百級(jí)潔凈烘箱,封裝百級(jí)烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
百級(jí)潔凈烘箱,封裝百級(jí)烘箱 工業(yè)烘箱 產(chǎn)品信息

潔凈烘箱,百級(jí)潔凈烤箱用途:
     潔凈烘箱,百級(jí)潔凈烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門;也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。

潔凈烘箱,百級(jí)潔凈烤箱特點(diǎn):
1.在普通環(huán)境下使用,能夠確保烘箱內(nèi)部等級(jí)達(dá)到Class 100
2.全周氬焊,耐高溫硅膠破緊,SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器,防機(jī)臺(tái)本身所產(chǎn)生微塵;
3.采平面水平由后向前送風(fēng)熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng),風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器,將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部,且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱,省電節(jié)能溫度均勻性好,過(guò)濾效率99.99%,Class 100;
4.強(qiáng)制送風(fēng)循環(huán)方式。雙風(fēng)道循環(huán)結(jié)構(gòu),溫度場(chǎng)分布均勻,智能P.I.D溫控系統(tǒng),得到溫度控制精度。

潔凈烘箱,百級(jí)潔凈烤箱產(chǎn)品技術(shù)參數(shù):

1.主要技術(shù)指標(biāo):
   無(wú)塵等級(jí):Class 100;     

 溫度范圍:RT+10200℃;
   溫度均勻度:±2℃;    

 溫度波動(dòng)度:±0.5℃(空載)        
   溫控精度:±0.1℃;        

 工作尺寸:W1600×D1600×H1000mm         
   電源:380v , 50Hz,20KW    

 網(wǎng)板:2塊(高度可調(diào)節(jié))

 潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理HEPA過(guò)濾器與前出風(fēng)水平層對(duì)流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。zui小限度控制風(fēng)速距離。
M計(jì)裝可編程控制1模式20步驟,zui多可做10個(gè)模式。溫度上升·下降斜率設(shè)定程序的重復(fù)次數(shù)在1-999次間設(shè)定。
簡(jiǎn)單操作的標(biāo)準(zhǔn)計(jì)裝
標(biāo)準(zhǔn)配置定值運(yùn)行模式以及自動(dòng)啟動(dòng)·自動(dòng)停止等可設(shè)定動(dòng)作的程序運(yùn)行。標(biāo)準(zhǔn)配置溫度過(guò)升防止器。 

2、箱體結(jié)構(gòu):
   烘箱由箱體部分、電器控制柜、電加熱及風(fēng)道系統(tǒng)組裝而成,結(jié)構(gòu)合理,外觀美觀大方;
   箱體材料:外箱采用優(yōu)質(zhì)拉絲不銹鋼,并經(jīng)堿性蘇打水清潔,可防止微塵;
   內(nèi)膽材料:采用優(yōu)質(zhì)SUS304鏡面不銹鋼板,并經(jīng)堿性蘇打水清潔,去油污避免烘烤時(shí)產(chǎn)生 PARTICLE;

3、完善的安全保護(hù)措施:
     漏電斷路器、控制線路保險(xiǎn)絲裝置、 超溫防止保護(hù)裝置、 電熱過(guò)電流保護(hù)裝置、馬達(dá)過(guò)電流保護(hù)、 機(jī)臺(tái)異常蜂鳴器逆向防止器、門面安全開(kāi)關(guān)。

 

一、HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù):

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2200W

溫度范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:±0.5℃

達(dá)到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):550*550*350(可定做)

有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。

二、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn):

1、預(yù)處理性能更好,由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-160℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。

4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;

5、更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、呼吸道等,由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。    

6、低液報(bào)警裝置,當(dāng)HMDS液過(guò)低時(shí)發(fā)出報(bào)警及及時(shí)切斷工作起動(dòng)功能;HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

7、可自動(dòng)吸取HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

8、可自動(dòng)添加HMDS功能,智能型程式設(shè)定,將HMDS藥液定量添加至設(shè)備自帶儲(chǔ)液瓶中,無(wú)需人工添加,降低了工作人員和藥液接觸的幾率。

9、HMDS藥液泄漏報(bào)警功能,可安裝HMDS藥液泄漏測(cè)試系統(tǒng),檢測(cè)到空氣中HMDS有害氣體時(shí)設(shè)備自動(dòng)報(bào)警并且停止工作。

三、HMDS真空烘箱的原理:      

    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

    在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

五、系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

整個(gè)系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等5部分組成

加熱模塊

    由于工藝的整個(gè)過(guò)程都需要在150左右的環(huán)境下進(jìn)行,所以自始至終加熱

統(tǒng)都在工作。

    本系統(tǒng)采用在腔內(nèi)分布兩塊獨(dú)立的熱板來(lái)實(shí)現(xiàn)加熱,每個(gè)熱板都采用人工智

能PID調(diào)節(jié)儀實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,調(diào)節(jié)儀控制固態(tài)繼電器的輸出從而實(shí)現(xiàn)溫度的精確

穩(wěn)定控制,測(cè)溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。

真空模塊

   由機(jī)械泵、真空組件、真空測(cè)量等組成,主要作用是置換氣體和抽走剩余的

HMDS蒸汽。

充氮模

   作用是在置換過(guò)程中,用氮?dú)鈦?lái)逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽,從而zui終替換空氣

或藥液蒸汽的氣氛。

   主要由氮?dú)庠?、控制閥和噴頭組成。

控制模

    控制模塊是本系統(tǒng)的核心模塊,它的作用是控制各個(gè)模塊的動(dòng)作和時(shí)序,完

成整個(gè)工藝過(guò)程。

    它主要由人機(jī)界面,CPU控制中心,控制接口和輸出部件,報(bào)警等5部分組

。

  人機(jī)界面采用φ100mm松下觸摸屏來(lái)實(shí)現(xiàn)參數(shù)、狀態(tài)等界面的顯示和參數(shù)的設(shè)

定輸入。PLC采用松下的FP0系列小型化PLC。

軟件組

整個(gè)控制軟件共分4個(gè)部分,即自動(dòng)運(yùn)行、手動(dòng)控制、參數(shù)設(shè)定、幫助。

當(dāng)按下自動(dòng)運(yùn)行鍵后,畫面轉(zhuǎn)換到運(yùn)行畫面,顯示當(dāng)前的工藝狀態(tài),運(yùn)行時(shí)間等,

同時(shí)系統(tǒng)開(kāi)始運(yùn)行,整個(gè)過(guò)程如圖2所示。

    首先打開(kāi)真空泵、開(kāi)始抽真空、待腔內(nèi)真空度達(dá)到某高真空度(該值可預(yù)設(shè))

后,開(kāi)始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度(該值也可預(yù)設(shè))后的再次重復(fù)抽真空、

充入氮?dú)獾倪^(guò)程,達(dá)到設(shè)定的充入氮?dú)獾拇螖?shù)后再次抽真空,然后充入藥液,達(dá)

到設(shè)定時(shí)間后,停止充入藥液,進(jìn)入保持階段。當(dāng)?shù)竭_(dá)設(shè)定的保持時(shí)間后,再次

開(kāi)始抽真空、充入氮?dú)?,次?shù)為設(shè)定值,當(dāng)系統(tǒng)自動(dòng)工作完成后,畫面切換到結(jié)

束畫面,同時(shí)給出聲光報(bào)警等待取片,在自動(dòng)工作過(guò)程中若出現(xiàn)異??牲c(diǎn)擊運(yùn)行

畫面中的停止鍵,隨時(shí)終止程序的運(yùn)行。

    參數(shù)設(shè)置窗口中設(shè)置運(yùn)行中所需的幾個(gè)參數(shù),如重復(fù)充氣次數(shù),加藥時(shí)間,

保持時(shí)間等。

    在手動(dòng)控制窗口中,可以隨意的打開(kāi)和關(guān)閉每個(gè)開(kāi)關(guān)量,主要用于調(diào)試和臨

時(shí)改變某個(gè)工藝。

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