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環(huán)保APP正式上線

等離子清洗機(jī)

參考價(jià) 40
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地香港特別行政區(qū)
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間2020/1/8 12:41:44
  • 訪問次數(shù)3477
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First-Nano System GmbH

2003年          創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)(Dresden University of Technology)


2008年          香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司  


2015年          上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司中國代表處,負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)

德國韋氏納米系統(tǒng)成立以來,一直為客戶想的更多,Thinking more ?。?!

產(chǎn)品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

清洗機(jī),分析儀
等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

儀器應(yīng)用:

1. 高分子材料表面修飾。

2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

7. 清洗沉積凝膠的基片。

8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

9. 牙科材料、人造移植物、科研的消毒和殺菌。

10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

    15168338725
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