等離子體納米改良升級(jí)系統(tǒng)

是一款為工業(yè)級(jí)客戶和研發(fā)型客戶使用需求設(shè)計(jì)的寬泛使用等離子表面處理設(shè)備，適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應(yīng)用，設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行，獲得高度均一的使用效果。

等離子體納米改良升級(jí)系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、13.56MHz射頻電源與自動(dòng)匹配系統(tǒng)，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性與可重復(fù)性

靈活的電極結(jié)構(gòu)設(shè)置與優(yōu)化的氣體饋入、分布方案，確保大批量處理的均勻性

PLC與工控機(jī)提供穩(wěn)定的過(guò)程控制，設(shè)備運(yùn)行的實(shí)時(shí)參數(shù)通過(guò)顯示屏直觀呈現(xiàn)

系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，易于保養(yǎng)與維護(hù)

2、標(biāo)準(zhǔn)腔體電極為平行板電極結(jié)構(gòu)，通過(guò)改變電極配置(RF電極、地電極、懸浮電極等)可以獲得不同的工藝效果

3、至多支持?jǐn)U展至8片電極

4、每對(duì)電極間為獨(dú)立空間  

5、批處理電極改變了標(biāo)準(zhǔn)的平行板電極結(jié)構(gòu)

6、通過(guò)優(yōu)化的電場(chǎng)和進(jìn)氣設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)對(duì)magazi和boat等載具內(nèi)產(chǎn)品的均勻處理。

技術(shù)參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域：

1、表面清潔與活化

2、表面有機(jī)污染物與金屬氧化物的去除

3、增強(qiáng)表面膠體流動(dòng)性，消除涂層分層

4、提升表面能，實(shí)現(xiàn)難粘材料的有效結(jié)合

5、表面粗化及微刻蝕

6、納米級(jí)表面粗化，應(yīng)力釋放

7、光刻膠、殘膠的去除

8、對(duì)多種材料的選擇性刻蝕