本套PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實(shí)現(xiàn)快速的升降溫,配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度;同時通過多路高精度質(zhì)量流量計(jì)控制不同氣體。是實(shí)驗(yàn)室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇
產(chǎn)品用途:
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
產(chǎn)品參數(shù)
- 爐體結(jié)構(gòu):雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng),有效保證外殼表面溫;
- 爐子底部裝有一對滑軌,移動平穩(wěn)
- 爐子可以手動從一端滑向另一端,實(shí)現(xiàn)快速的加熱和冷卻
- 爐蓋可開啟,可以實(shí)時觀察加熱的物料
- 電源電壓:AC220V 50/60Hz;
- 功率:4KW
- 爐管材質(zhì):高純石英管,高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng),耐腐蝕,熱膨脹系數(shù)極小
- 爐管尺寸:Φ60*1250mm(可定制)
- 加熱系統(tǒng):加熱元件采用優(yōu)質(zhì)合金絲0Cr27Al7Mo2,表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用
- 加熱區(qū)長度:400mm(可定制)
- 恒溫區(qū)長度:200mm(可定制)
- 工作溫度:≤1150℃(可定制)
- 溫度:1200℃(可定制)
- 升溫速率:10℃/min
- 極限真空:6.0×10-5Pa
- 工作真空:7.6×10-4Pa
- 溫控系統(tǒng):溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能、30段升降溫程序
- 測溫元件:N型熱電偶
- 恒溫精度:±1℃
- 混氣系統(tǒng):四路質(zhì)量流量計(jì):數(shù)字顯示、氣體流量自動控制、內(nèi)置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥、管路采用不銹鋼管,接口為Φ6卡套、每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥、通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量
- 流量規(guī)格:0~200sccm
- 流量精度:±1.5%
- 高真空真空系統(tǒng):采用雙級旋片真空泵+分子泵,極限真空可達(dá)4.0*10^-4Pa
- 復(fù)合真空計(jì),配置電阻規(guī)+電離規(guī)
- 抽速:110L/S
- 冷卻:風(fēng)冷
- 射頻電源系統(tǒng)輸出功率:0-300W
- 功率穩(wěn)定度:±0.1%
- 射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005%
- 反向功率:120W
- 射頻電源電子輸出端口:UHF
- 冷卻:風(fēng)冷
- 電源:AC187-253V 50/60Hz
- 可選配件:混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng),各種剛玉、石英坩堝,石英管,計(jì)算機(jī)控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀。