高通量光催化反應(yīng)
Lumidox II 96 位 LED 陣列
另一種平坦的、化學(xué)惰性的漫反射墊可用于標(biāo)準(zhǔn) SLAS 足跡,以及利基應(yīng)用,如照明細(xì)胞培養(yǎng)瓶、儲(chǔ)存板和大型容器。
兩種陣列樣式均可用于主動(dòng)冷卻底座或被動(dòng)(實(shí)心)底座。兩種不同的鏡頭樣式和兩種底座允許 48 種以上的可能配置。注意:實(shí)心底座陣列不是自冷卻的,需要使用足夠的冷卻器/冷卻設(shè)備。
關(guān)于陣列冷卻和工作溫度的說明
為了增加保護(hù),每個(gè)設(shè)備都有一個(gè)內(nèi)置的熱熔斷開關(guān),在過熱的情況下,會(huì)自動(dòng)關(guān)閉設(shè)備。Solid Base Array的跳閘溫度為95°C,冷卻至 65°C 時(shí)會(huì)重置。如果溫度超過 75°C,主動(dòng)冷卻基礎(chǔ)陣列將關(guān)閉。一旦它們冷卻到 45°C,它們就會(huì)重置。注意:由于冷卻風(fēng)扇的干擾,主動(dòng)冷卻底座陣列與強(qiáng)磁場(chǎng)不兼容,例如在大多數(shù)滾筒攪拌器中發(fā)現(xiàn)的強(qiáng)磁場(chǎng)。