半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備概述

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備符合工業(yè)需求，避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì)，極簡(jiǎn)易之配管及回路設(shè)計(jì)需求，提供完整之電源供應(yīng)原件，可提供單一膜塊獨(dú)立電源供應(yīng)，可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù)，膜塊設(shè)計(jì)可承受工作壓力100psi，膜塊設(shè)計(jì)可承受工作溫度45℃(113 )，高溫專用膜塊可承受工作溫度80℃(176 )，*無(wú)需停機(jī)再生，影響制程，無(wú)需使用酸堿再生也無(wú)廢水排放。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作流程

　　預(yù)處理——RO裝置——中間水箱——中間水泵——EDI裝置——純水水箱——純水泵——用水點(diǎn)。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

　　不耗酸、堿、自動(dòng)再生。

　　占地面積小，自動(dòng)化程度高。

　　出水質(zhì)量高且可調(diào)整。

　　單機(jī)產(chǎn)水量：50m3/h。

　　產(chǎn)水電阻：≥15MΩ.cm(25℃)。

　　適用于電廠化水、鍋爐補(bǔ)給水、冶金、汽車(chē)工業(yè)。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的工作原理

　　EDI系統(tǒng)主要是在直流電場(chǎng)的作用下，通過(guò)隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動(dòng)，利用交換膜對(duì)離子的選擇透過(guò)作用來(lái)對(duì)水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對(duì)電極之間,通常由陰膜，陽(yáng)膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構(gòu)成濃室和淡室(即陽(yáng)離子可透過(guò)陽(yáng)膜,陰離子可透過(guò)陰膜)。淡室水中陽(yáng)離子向負(fù)極遷移透過(guò)陽(yáng)膜，被濃室中的陰膜截留，水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽(yáng)膜截留，這樣通過(guò)淡室的水中離子數(shù)逐漸減少，成為淡水。而濃室的水中，由于濃室的陰陽(yáng)離子不斷涌進(jìn)，電介質(zhì)離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達(dá)到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

　　半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

　　1、電廠化學(xué)水處理。

　　2、電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水。

　　3、食品、飲料、飲用水的制備。

　　4、小型純水站，團(tuán)體飲用純水。

　　5、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水。

　　6、其他行業(yè)所需的高純水制備。

　　7、制藥工業(yè)工藝用水。

　　8、海水、苦咸水的淡化。