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AutoChem II 2920化學(xué)吸附儀(TPD、TPR、分散度)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱蘇州德優(yōu)博測(cè)新材料有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/11/24 17:10:02
  • 訪問(wèn)次數(shù)308
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蘇州德優(yōu)博測(cè)新材料有限公司坐落于美麗的蘇州,是一家科研領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)機(jī)構(gòu)。公司在檢測(cè)行業(yè)擁有豐富經(jīng)驗(yàn)的檢測(cè)團(tuán)隊(duì),雄厚的技術(shù)資源,*的檢測(cè)儀器以及完善的售后服務(wù)體系。公司中心基礎(chǔ)配套設(shè)施齊全,有良好的工作條件。主要測(cè)試設(shè)備有:冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(SEM);X射線衍射儀(XRD); 核磁共振波譜儀(NMR);X射線光電子能譜儀(XPS);化學(xué)吸附儀(TPR、TPD);物理吸附儀(BET);熒光光譜儀(PL);元素分析儀;氣相色譜儀(GC);氣相-質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS);高性能電噴霧質(zhì)譜儀;電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP);X射線熒光光譜分析儀(XRF);紅外光譜儀(常規(guī),吡啶);紫外可見(jiàn)分光光度儀(Uv-vis);激光粒度儀等檢測(cè)儀器。本公司倡導(dǎo)“誠(chéng)信、嚴(yán)謹(jǐn)、溝通、凝聚”的企業(yè)精神,以全心全意為客戶提供周到服務(wù)為宗旨。公司有提供科學(xué)、準(zhǔn)確、可靠數(shù)據(jù)的服務(wù)理念,誠(chéng)信嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓ぷ鲬B(tài)度贏得客戶的信賴,并成功與高校、研究所、公司建立長(zhǎng)期穩(wěn)定的合作關(guān)系。
儀器照片儀器名稱全自動(dòng)化學(xué)吸附儀AutoChemII2920儀器型號(hào)AutoChemII2920生產(chǎn)廠家美國(guó)麥克默瑞提克儀器有限公司測(cè)試項(xiàng)目H2-TPR,CO2-TPD,金屬分散度技術(shù)參數(shù)吸附氣體:二氧化碳、氫氣、氧氣高溫爐溫度范圍:40-1100℃
AutoChem II 2920化學(xué)吸附儀(TPD、TPR、分散度) 產(chǎn)品信息

 

儀器照片

clip_image002.jpg

儀器名稱

全自動(dòng)化學(xué)吸附儀 AutoChem II 2920

儀器型號(hào)

AutoChem   II 2920

生產(chǎn)廠家

美國(guó)麥克默瑞提克儀器有限公司

測(cè)試項(xiàng)目

H2-TPR, CO2-TPD, 金屬分散度

技術(shù)參數(shù)

吸附氣體:二氧化碳、氫氣、氧氣

高溫爐溫度范圍:40-1100 ℃;

自動(dòng)升溫速度:

0-50 ℃/min(-70-500 ℃);  

0-30 ℃/min(500-700 ℃);

0-10 ℃/min(750-1100 ℃);

儀器特點(diǎn)

1、內(nèi)部管路體積小,保證了高分辨率與快速檢測(cè),減小了計(jì)算氣體體積時(shí)的偏差。

2、高靈敏度的線性熱傳導(dǎo)檢測(cè)器(TCD)確保校準(zhǔn)體積保持恒定,從而峰面積與反應(yīng)氣體體積成正比關(guān)系。

3、四個(gè)高精度的質(zhì)量流量計(jì)保證非常準(zhǔn)確、可程序控制的氣體流量控制,確?;€穩(wěn)定和精確測(cè)量氣體體積。

4、分別用于制備氣、載氣和Loop氣的十二個(gè)進(jìn)氣口可連接更多的氣體,進(jìn)行更為復(fù)雜的實(shí)驗(yàn),例如TPR / TPO循環(huán)。

典型操作(脈沖Cu分散度)

 

 

 

測(cè)試原理:

式1.2.png  


氫氣的消耗量=A1 





氫氣的消耗量=A2

式(1)代表樣品中的CuO還原。式(2)是用N2O氧化樣品表面的金屬Cu成Cu2O,這是一種常見(jiàn)的方法用于表征催化劑表面金屬的分散度以及金屬粒徑的大小。式(3)是將N2O氧化為Cu2O還原為Cu。

測(cè)試步驟:

樣品重量為100 mg(視情況而定),首先用氬氣(預(yù)處理氣)在200 ℃下(程序升溫速率為10 ℃/min)吹掃1   h后降至室溫。然后將載氣/參比氣切換為H2(5%vol.)/Ar,以30 mL/min的流量吹掃15 min,待基線穩(wěn)定后升溫,以10℃/min升到350   ℃,并在350℃下還原2 h,每1s記錄一次信號(hào),還原結(jié)束后降到60 ℃。然后切換為N2O氣體(預(yù)處理氣),He(載氣/參比氣),流量各為30 mL/min,此條件下保持1   h。然后切換氣路為載氣/參比氣Ar,loop氣H2(5%vol.)/Ar,以10 ℃/min升至350 ℃后,保持15   min,并等到基線穩(wěn)定后,開(kāi)始脈沖進(jìn)樣,并記錄信號(hào),還原結(jié)束后降到60 ℃。催化劑表面銅的分散度(D)的計(jì)算如下:

D=2A2/A1×99%        

式(4)表面的金屬銅表面積是以第二步氫氣消耗的量和每平方米銅有1.46×1019個(gè)銅原子為基準(zhǔn)計(jì)算。

H2-TPR案例

clip_image007.jpg

樣品要求

寄送樣品須干燥處理并制備成40-60目顆粒;送樣質(zhì)量大于300 mg;請(qǐng)

注明預(yù)處理溫度、溫度范圍、升溫速率及詳細(xì)測(cè)試步驟。

 


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