高純水設(shè)備，超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。
其中EDI高純水設(shè)備作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。
連續(xù)電除鹽（EDI，Electro deionization或CDI，continuous electrode ionization),是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子，同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被除去的過(guò)程。這一過(guò)程離子交換樹脂是電連續(xù)再生的，因此不需要使用酸和堿對(duì)之再生。這一新技術(shù)可以替代傳統(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)出高達(dá)18M-CM的超純水。又可以比較清晰地描述如下：EDI是利用陰陽(yáng)離子膜，采用對(duì)稱堆放的形式，在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹脂，分別在直流電壓的作用下，進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下，水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-，這些H+和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽(yáng)離子不斷地進(jìn)行了再生。由于EDI不停進(jìn)行交換——再生，使得純水度越來(lái)越高，所以，輕而易舉的產(chǎn)生了高純度的高純水。
高純水設(shè)備是將反滲透技術(shù)和離子交換技術(shù)結(jié)合后形成的專業(yè)制備超純水的工具，它采用微電腦智能程序控制系統(tǒng)，可以自動(dòng)檢測(cè)并顯示水質(zhì);在獲得高質(zhì)量產(chǎn)水的同時(shí)，保證出水量。
高純水設(shè)備的EDI工藝系統(tǒng)選用經(jīng)過(guò)一次反滲透除鹽后的水作為進(jìn)水，再經(jīng)過(guò)EDI模塊內(nèi)離子交換樹脂進(jìn)行二次除鹽;這樣可以使純水制造過(guò)程連續(xù)化，它替代了傳統(tǒng)DI混合樹脂床制造去離子水的方法，避免使用酸堿再生;大量減少酸堿成本投入的同時(shí)也可以有效避免環(huán)境污染?？蛇B續(xù)，穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水，無(wú)需因樹脂再生而停機(jī)；無(wú)污染物排放，既環(huán)保又省去了廢液處理的投資。
純水和高純水水質(zhì)指標(biāo)和使用行業(yè)推薦：
水質(zhì)指標(biāo) | 推薦使用行業(yè) |
電導(dǎo)率≤10μS/CM | 動(dòng)物飲用水(醫(yī)藥)、普通化工原料配料用水、食品行業(yè)配料用水、洗砂行業(yè)、普通電鍍行業(yè)沖洗用去離子水、紡織印染用除硬脫鹽純水、聚脂切片用純水、精細(xì)化工用水、民用飲用純凈水用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電導(dǎo)率≤4μS/CM | 電鍍化學(xué)品生產(chǎn)用水、化工行業(yè)表面活性劑生產(chǎn)用水、科研純化水、白酒生產(chǎn)用純水、啤酒生產(chǎn)用純水、民用飲用純凈水用水、普通化妝品生產(chǎn)用水、血透純水機(jī)用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率5~10MΩ.CM | 鋰電池生產(chǎn)用水、蓄電池生產(chǎn)用水、化妝品生產(chǎn)用水、電廠鍋爐用純水、化工廠配料用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率:10~15MΩ.CM | 動(dòng)物實(shí)驗(yàn)室用水、玻殼鍍膜沖洗用水、電鍍用純水、鍍膜玻璃用水、進(jìn)口機(jī)器添加用水，其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率≥15 MΩ.CM | 醫(yī)藥生產(chǎn)用無(wú)菌水、口服液用水、高級(jí)化妝品生產(chǎn)用去離子水、電子行業(yè)鍍膜用水、光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、磁性材料用純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率≥17 MΩ.CM | 磁性材料鍋爐用軟化水、敏感新材料用水、半導(dǎo)體材料生產(chǎn)用水、金屬材料用水、防老化材料實(shí)驗(yàn)室用水、有色金屬，貴金屬冶煉用水、鈉米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用水、水晶片生產(chǎn)用水、超純化學(xué)試劑生產(chǎn)用水、實(shí)驗(yàn)室用高純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水. |
電阻率≥18 MΩ.CM | ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、化驗(yàn)室用水、電子級(jí)無(wú)塵布生產(chǎn)用水等其它有相同水質(zhì)要求的用水 |
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