otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹
otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹
產(chǎn)品信息
膜厚測(cè)量范圍 1 nm 至 92 μm(SiO 2換算)
薄膜厚度值的高重復(fù)性
每點(diǎn)1秒以內(nèi)的高速測(cè)量
圖案可瞄準(zhǔn)微小點(diǎn)(最小Φ3μm)
適用于圖案化晶圓的膜厚測(cè)繪
可以獲取用于圖案對(duì)齊的圖像
除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外,它還通過實(shí)現(xiàn)自動(dòng)可變測(cè)量角度機(jī)構(gòu)來兼容所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)分析器方法外,還通過為延遲板提供自動(dòng)安裝/拆卸機(jī)構(gòu)提高了測(cè)量精度。 |
可在紫外-可見(300 至 800 nm)波長范圍內(nèi)測(cè)量橢圓參數(shù)
能夠分析納米級(jí)多層薄膜的膜厚
通過 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測(cè)量橢圓光譜
支持通過可變反射角測(cè)量對(duì)薄膜進(jìn)行詳細(xì)分析
通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和添加配方注冊(cè)功能提高可操作性
橢圓參數(shù)(tanψ,cosΔ)測(cè)量
光學(xué)常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析
膜厚分析
半導(dǎo)體ウェーハ
ゲート酸化薄膜,窒化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe, BPSG,TiN
レジストの光學(xué)定數(shù)(波長分散)化合物半導(dǎo)體
AlxGa(1-x)As 多層膜,アモルファスシリコンFPD
配向膜各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon),超伝導(dǎo)用薄膜,磁気ヘッド薄膜光學(xué)薄膜
TiO2,SiO2,反射防止膜リソグラフィー分野
g線(436nm),h線(405nm),i線(365nm)などの各波長におけるn,k評(píng)価