ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。
它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。
高效率截面加工功能,使電鏡截面觀察時(shí)樣品加工更簡(jiǎn)單。
參數(shù)規(guī)格:
通用 | |
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使用氣體 | Ar(氬)氣 |
加速電壓 | 0~8 kV |
截面研磨 | |
研磨速率(材料Si) | 1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1 |
**研磨寬度 | 8 mm*2 |
**樣品尺寸 | 20(W) × 12(D) × 7(H) mm |
樣品移動(dòng)范圍 | X ±7 mm、Y 0~+3 mm |
離子束間歇加工功能 | 標(biāo)準(zhǔn)配置 |
擺動(dòng)角度 | ±15°、±30°、±40° |
平面研磨 | |
**加工范圍 | φ32 mm |
**樣品尺寸 | φ50 × 25(H) mm |
樣品移動(dòng)范圍 | X 0~+5 mm |
離子束間歇加工功能 | 標(biāo)準(zhǔn)配置 |
旋轉(zhuǎn)速度 | 1 r/m、25 r/m |
傾斜角度 | 0~90° |
選配
項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
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高耐磨遮擋板 | 耐磨遮擋板是標(biāo)準(zhǔn)遮擋板的2倍左右(不含鈷) |
加工監(jiān)測(cè)用顯微鏡 | 放大倍率 15×~100× 雙目型、三目型(可加裝CCD) |
產(chǎn)品特點(diǎn):
截面研磨速率高達(dá)1 mm/h*1!
新研發(fā)的PLUSII離子槍發(fā)射出高電流密度離子束,大幅提高*2了研磨速率。
截面研磨結(jié)果對(duì)比
(樣品:自動(dòng)鉛筆芯、研磨時(shí)間:1.5小時(shí))
**截面研磨寬度可達(dá)8 mm!
使用廣域截面研磨樣品座,加工寬度可達(dá)8 mm,十分適用于電子元件等的研磨。
復(fù)合型研磨儀
IM4000系列復(fù)合型(截面研磨、平面研磨)離子研磨儀。
可根據(jù)需求對(duì)樣品進(jìn)行前處理。
截面研磨 平面研磨
切割或機(jī)械研磨難以處理好的軟材料或復(fù)合材料的截面制作。 機(jī)械研磨后樣品的精修或表面清潔。
截面研磨加工示意圖 平面研磨加工示意圖