ICP光譜儀對(duì)實(shí)驗(yàn)室有什么樣的要求?

ICP光譜儀適用于分析、有色金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、土壤、石油、化工、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等，從超微量到常量的定性或定量分析，那ICP光譜儀在實(shí)驗(yàn)中對(duì)安裝的要求有哪些呢?

1、實(shí)驗(yàn)室要求溫度穩(wěn)定且防塵，雙層門窗，具有一定的使用面積。

2、實(shí)驗(yàn)室要求配備空調(diào)機(jī)，溫度控制在20-25℃(波動(dòng)小于2℃);

3、實(shí)驗(yàn)室需配備濕度/溫度計(jì)，實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的相對(duì)濕度應(yīng)小于75%，

4、防震性能好?？箾_擊能力為10個(gè)重力加速度。實(shí)驗(yàn)室地面無明顯震感。

5、電磁干擾小，抗電磁場干擾，RF信號(hào)衰減大于103，實(shí)驗(yàn)室遠(yuǎn)離中頻爐，變壓器等高頻發(fā)生裝置。

6、粉塵要求：小于500個(gè)質(zhì)點(diǎn)/千升。

7、配備一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的計(jì)算機(jī)工作臺(tái)和兩把椅子。

ICP光譜儀是什么構(gòu)成的？

一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分：

1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。

2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄?。該?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號(hào)在空間上按波長分散成為多條光束。

4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長。

5. 探測器陣列：放置于焦平面，用于測量各波長像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。

ICP光譜儀的校正方法

波長校正

波長校正是為使實(shí)際波長同檢測器檢出波長相一致。大致可分為兩分部：首先通調(diào)整儀器來對(duì)光譜儀進(jìn)行校正，然后是通過漂移補(bǔ)償?shù)霓k法減少因環(huán)境的變換導(dǎo)致譜線產(chǎn)生位移。光譜校正是儀器實(shí)際測得的波長與理論波長之間出現(xiàn)的偏差別進(jìn)行的校正，一般是通過測試一系列元素的波長來進(jìn)行校正，校正后所得數(shù)據(jù)即為對(duì)光譜彼進(jìn)行校正的校正數(shù)據(jù)。

漂移補(bǔ)嘗是因?yàn)楣馄諆x光譜線位移與波長、溫度、濕度、壓力變化之間有非線性函數(shù)關(guān)系，這種函數(shù)關(guān)系具有普遍適用性。其中零級(jí)光譜線隨波長、溫度變化產(chǎn)生的位移。漂移補(bǔ)償是一種常規(guī)監(jiān)視過程，其原理是在進(jìn)樣間歇期間，監(jiān)測多條氫線波長，將實(shí)際值與理論值相比較，并對(duì)誤差進(jìn)行補(bǔ)償。

ICP光譜儀主要用于微量元素的分析，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅、磷、 硫等少量的非金屬，共 72 種。廣泛地應(yīng)用于質(zhì)量控制的元素分析，超微量元素 的檢測，尤其是在環(huán)保領(lǐng)域的水質(zhì)監(jiān)測。還可以對(duì)常量元素進(jìn)行檢測，例如組分 的測量中，主要成分的元素測定。