產(chǎn)品簡介:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個(gè)載物盤受力均勻。通過手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無人看守工作。
產(chǎn)品名稱 | UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī) | |||
產(chǎn)品型號(hào) | UNIPOL-1000D | |||
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來水及排水 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:無 4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:不需要 | |||
主要特點(diǎn) | 1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 2、中心加載壓力,壓力穩(wěn)定可靠。 3、性能優(yōu)良,操作簡單,適用范圍廣。 | |||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源:220V 50Hz 2、載物盤:Ø150mm 3、桃型孔:Ø25.4mm 4、磨拋盤:Ø250mm 5、載物盤(上盤)轉(zhuǎn)速:10rpm-80rpm(無級(jí)調(diào)速) 6、磨拋盤(下盤)轉(zhuǎn)速:50rpm-400rpm(增量調(diào)速,最小增量10) 7、壓力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg) | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:780mm×590mm×750mm;重量:100kg | |||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 鑄鋁盤 | 2個(gè) | |
2 | 平載物盤 | 1個(gè) | ||
3 | 桃型孔載物盤 | 1個(gè) | ||
4 | 磁力片 | 4片 | ||
5 | 研拋底片 | 6片 | ||
6 | 砂紙(240#、400#、800#、1500#) | 各2片 | ||
7 | 拋光墊(磨砂革、合成革、聚氨酯) | 各2片 | ||
8 | 金剛石拋光膏(W2.5) | 1支 | ||
可選配件 | 1、SKZD-2滴料器 2、SKZD-3滴料器 3、SKZD-4自動(dòng)滴料器 4、SKZD-5自動(dòng)滴料器 5、YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 6、精密測厚儀 7、GPC-50A精確磨拋控制儀 8、陶瓷研磨盤 9、玻璃研磨盤 |