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環(huán)保APP正式上線

單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地沈陽市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/6/30 21:06:43
  • 訪問次數(shù)366
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達(dá)科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要?! ∩蜿柨凭Я⒆銍鴥?nèi)市場實(shí)際情況,以提供實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國?! ∩蜿柨凭б恢敝铝τ诟叩仍盒?、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務(wù),即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機(jī)構(gòu)、實(shí)驗(yàn)室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務(wù)關(guān)系。其中北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、東北大學(xué)等高校,金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學(xué)地質(zhì)與地球物理研究所等科研機(jī)構(gòu),中國航天工業(yè)集團(tuán)公司、中國船舶重工集團(tuán)公司、攀鋼集團(tuán)有限公司等企業(yè)都是長期合作的榮譽(yù)客戶。  沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務(wù)團(tuán)隊(duì),能夠?yàn)槊恳晃豢蛻籼峁┎少徑ㄗh與方案、完善的使用指導(dǎo)與售后服務(wù)。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標(biāo)?! ∩蜿柨凭б宦纷哌^的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為國際市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)
單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品簡介單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應(yīng)氣體,利用等離子體放電,使反應(yīng)氣體激活并實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的技術(shù)。該系統(tǒng)為單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝研發(fā)設(shè)備,用于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

 

產(chǎn)品名稱

單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)

安裝條件

1、環(huán)境溫度10℃~35℃

2、相對濕度不大于75%

3、供電電源220V、單、50±0.5 Hz

4、設(shè)備功率:小于4KW   

5、供水水壓0.2MPa~0.4MPa,水溫15℃~25℃,

6、設(shè)備周圍環(huán)境整潔,空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬導(dǎo)電的塵?;驓怏w存在。

技術(shù)參數(shù)

1、系統(tǒng)采用單室筒式結(jié)構(gòu),手動前開門;
2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學(xué)拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空室尺寸為Φ300mm×300mm;

3極限真空度:8.0x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后,采用600L/S分子泵抽氣,前級采用4L/S);系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到8.0x10-4 Pa,40分鐘可達(dá)到; 停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度:≤5 Pa;
4、采用樣品在下,噴淋頭在上的電容式耦合方式進(jìn)氣;
5、樣品加熱溫度:500℃,溫控精度:±1°C,采用溫控表進(jìn)行控溫;
6、噴淋頭尺寸:Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距10-65mm在線連續(xù)可調(diào)(可根據(jù)工藝調(diào)整),并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示;
7.、沉積工作真空:13.3-133Pa(可根據(jù)工藝調(diào)整)
8、射頻電源:頻率 13.56MHz,功率300W全自動匹配;
9、氣體種類(用戶自備)標(biāo)準(zhǔn)配置為2路100sccm質(zhì)量控制器,用戶可根據(jù)工藝更改氣路配置;

10、氣體過濾設(shè)備用戶自備;

11、系統(tǒng)尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。

關(guān)鍵詞:過濾設(shè)備
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