Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是**研發(fā)出的一款基于ESCALAB 250Xi產(chǎn)品后,具有可擴(kuò)展功能、多種分析技術(shù)集成化的測試手段。該產(chǎn)品通過的靈活性、完備的專業(yè)配置選項(xiàng)、直觀的軟件操作以及硬件配置,帶給用戶的是*****的的實(shí)驗(yàn)結(jié)果和生產(chǎn)力。強(qiáng)大的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)提供系統(tǒng)控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理與系統(tǒng)運(yùn)行報(bào)告等一站式服務(wù)。
入圍**新品獲獎理由:
***的成像探測器設(shè)計(jì),用于定量XPI成像: 電子倍增器和電阻陽極探測器的雙探測器設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成像的需求??臻g連續(xù)的電阻陽極探測器創(chuàng)新技術(shù),一方面使得XPI成像分辨率達(dá)1um,另一方面使得XPI成像得到數(shù)據(jù)無探測器背底特征,無需背底校正,直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結(jié)果。 可選配的EDS探測器,實(shí)現(xiàn)體相分析技術(shù)和表面分析技術(shù)的結(jié)合: 新設(shè)計(jì)Xi+系統(tǒng)可選配EDS探測器與俄歇電子*結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)樣品納米尺度的體相微區(qū)元素成分分析,EDS可探測微米深度的元素組成,可以用于材料深度剖析前的元素組成預(yù)判。體相敏感的EDS技術(shù)和XPS表面分析技術(shù)的結(jié)合可更直觀地用于研究合金等的表面偏析行為。 標(biāo)配的反射電子能量損失譜REELS分析技術(shù),用于彌補(bǔ)UPS能帶分析和XPS元素分析: REELS可以探測材料的能級和帶隙結(jié)果,并可用于材料中H元素含量的定量。與UPS技術(shù)結(jié)合可了解完整的價帶導(dǎo)帶信息,并彌補(bǔ)XPS、AES等技術(shù)不能檢測H元素含量的缺陷 發(fā)展的系列基于Xi+的成熟準(zhǔn)原位樣品處理、制備、反應(yīng)系統(tǒng): 基于Xi+,設(shè)計(jì)的一系列成熟的ALD、MBE樣品制備系統(tǒng),高溫高壓催化還原反應(yīng)系統(tǒng)和樣品退火系統(tǒng),滿足不同的科研項(xiàng)目需求。
性能特點(diǎn)
配備為提供** XPS 性能而設(shè)計(jì)的單色化X射線源,確保ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針有**的樣品測試通量。多技術(shù)能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設(shè)備,使該儀器在解決任何表面分析問題時都能游刃有余。利用*的 Avantage 數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng),從測試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。
ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針的特點(diǎn):
高靈敏度能譜
小面積 XPS
深度剖析能力
角分辨 XPS
標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能
標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能
標(biāo)配“樣品預(yù)處理”室
多技術(shù)分析的多功能性
多個樣品制備技術(shù)可選
全自動無人值守式分析
多樣品分析
單色化X射線源
雙晶體微聚焦單色器配備一個 500 mm 直徑的羅蘭圓,使用鋁陽極靶
樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm
透鏡、分析儀和檢測器
透鏡/分析器/檢測器一體化使 ESCALAB 250Xi XPS 能譜儀同時具備成像和小面積 XPS 分析能力的性
兩種類型的檢測器可以確保為每種分析提供**檢測——二維檢測器用于成像,基于通道電子倍增器的檢測器則用于需要檢測高計(jì)數(shù)率的能譜分析
透鏡配備了兩種電腦控制的光闌組件,一套視場光闌用于控制低至 <20 μm 的分析區(qū)域,適用于小面積分析;另一套光闌則用于控制透鏡的接收角,對于高質(zhì)量角分辨 XPS 至關(guān)重要
180° 半球型能量分析器
深度剖析
數(shù)控式 EX06 離子*是一款高性能的離子源,哪怕在使用低能離子源時也有著很好的性能
提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)
多技術(shù)能力
可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測性能
使用 EX06 離子*時透鏡組和能量分析儀的電源可反向(確保離子散射能譜 (ISS) 可用)
電子*可加壓升至 1000 V,為 REELS 提供優(yōu)異的離子源
技術(shù)選項(xiàng)
非單色化 X 射線光源的XPS分析
AES(俄歇電子能譜)
UPS(紫外光電子能譜)
真空系統(tǒng)
5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室,****提高磁屏蔽效率
與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比,屏蔽效能更佳
樣品制備
系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室
額外的制備室可選
Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)
集成了測試分析的所有方面,包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成
允許遠(yuǎn)程控制,并且可輕松與第三方軟件交互(例如 Microsoft Word)
管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個分析過程
應(yīng)用領(lǐng)域
催化
化工
半導(dǎo)體
微電子
薄膜
太陽能
金屬
納米材料
玻璃
高分子
生物材料