性能優(yōu)勢
出色的信噪比
垂直離子光學設計和二次偏轉(zhuǎn)設計,可將離子束中所有中性組分更好地去除,更大限度地保證分析離子進入到四極桿中,具有杰出的過濾功能,降低背景和干擾,大幅度提高信噪比,獲得準確、可靠的結(jié)果。
優(yōu)異的耐基體性能
創(chuàng)新的垂直炬管設計、直角離子光學設計、瀑布流式進氣碰撞反應池、強有力的自激式全固態(tài)ICP離子源和氬氣在線稀釋等關(guān)鍵技術(shù)確保EXPEC 7350具有更佳的耐基體能力,高鹽樣品及高揮發(fā)性樣品均可直接進樣分析。
杰出的抗力
通過在碰撞反應池前添加一個四極桿質(zhì)量過濾器(Q1),將來自等離子體和樣品基體的干擾離子阻止在反應池外,大大提高了消除干擾的能力,即使是面對磷、硫等干擾強烈的元素,也可達到ppt級的檢出限,是痕量元素分析的解決方案。
強大的應用能力
可搭配全自動石墨/微波、全自動離子交換、高效液相色譜、固體直接進樣、大氣顆粒物在線進樣、快速進樣、有機進樣等豐富的附件系統(tǒng),滿足各個應用場景的分析需求。
應用領域
環(huán)境保護:包括自來水,地表水 ,地下水,海水以及各種土壤、污泥 、廢棄物等的分析
食品安全:衛(wèi)生防疫、商檢、煙及酒等食品的質(zhì)量控制,鑒別真?zhèn)蔚?/span>
臨床醫(yī)藥:頭發(fā)、血樣、尿樣、生物組織的分析以及蛋白質(zhì)、酶等的生物機理研究,藥品質(zhì)量控制等
合金材料:鋼鐵合金、玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析
半導體:高純試劑,高純金屬,Si、CaAs晶片的超痕量雜質(zhì),光刻膠和清洗劑等高基體不穩(wěn)定樣品分析