Delta-X 多功能X射線衍射儀/反射儀
能滿足科學(xué)研究所和技術(shù)開發(fā)中心不同材料體系的測試需求。
產(chǎn)品簡介
Jordan Valley公司設(shè)計的這款Delta-X多功能X射線衍射設(shè)備，可靈活應(yīng)用于材料科學(xué)研究、工藝開發(fā)、與生產(chǎn)質(zhì)量控制等環(huán)境。Delta-X衍射儀可以在常規(guī)衍射模式、高分辨率衍射模式、X射線反射模式之間靈活切換，衍射儀的光源臺和探測臺的光學(xué)元件可以全自動化調(diào)控，并采用了水平式樣品臺。
光學(xué)配置的切換在菜單式程序控制下由計算機完成，無需手動操作。自動化切換和準(zhǔn)直不需要專門人員和操作設(shè)備，并確保每次切換都能達到合適的光學(xué)準(zhǔn)直狀態(tài) 。
常規(guī)的樣品測量可以通過Delta-X衍射儀實現(xiàn)部分、乃至的自動化運行。自動化測量程序可以依客戶需求進行專門定制。也可采用的手動模式來操作衍射儀，以便發(fā)展新的測量方法，研究新材料體系。
數(shù)據(jù)分析或擬合可以作為測量程序的一部分，能夠?qū)崿F(xiàn)自動化，也可根據(jù)需求來單獨進行數(shù)據(jù)分析。 如以半導(dǎo)體生產(chǎn)線為例，根據(jù)生產(chǎn)線的需求，可以將RADS和REFS擬合軟件以自動化模式運行，能夠允許設(shè)備在沒有用戶干擾的情況下自動完成常規(guī)性的數(shù)據(jù)分析，并直接完成數(shù)據(jù)擬合和結(jié)果輸出。RADS和REFS也可以單獨安裝，以便進行更詳細的數(shù)據(jù)分析。
產(chǎn)品特點
· 自動化進行樣品準(zhǔn)直、測試、和數(shù)據(jù)分析
· 客戶可以自行設(shè)定測量的自動化程度
· 300 mm的歐拉環(huán)支架 (Eulerian Cradle) 設(shè)計，高精度的樣品定位和掃描
· 300 mm的晶片水平式放置，且可以完整映射
· 100° 的Chi 軸傾轉(zhuǎn)范圍、無限制范圍的 Ph i 軸旋轉(zhuǎn)空間， 可實現(xiàn)極圖和殘余應(yīng)力測試
· 智能化的光學(xué)配置切換和準(zhǔn)直。依測量需要，自動選擇光學(xué)配置并實施光學(xué)準(zhǔn)直
· 強大的工業(yè)級設(shè)備控制軟件和數(shù)據(jù)分析軟件
· 高分辨率測角儀，以保證精密且準(zhǔn)確的測量
· 高強度的光源臺設(shè)計和光學(xué)元件組合，實現(xiàn)快速測量
· 多方面廣泛的測試技術(shù)和測量參數(shù)
· 由擁有超過30年的高分辨率X射線衍射經(jīng)驗的專家設(shè)計、制造，具有客戶經(jīng)驗。
產(chǎn)品優(yōu)勢
1、 自動化控制的光學(xué)系統(tǒng)
Delta - X衍射儀的入射束包括多種標(biāo)準(zhǔn)的光學(xué)配置模式，使光學(xué)配置具有充分的靈活性，且易于操作?？梢砸罁?jù)測量樣品的材料類型，選擇參考晶體。
2、樣品臺
Delta - X衍射儀的歐拉（Eulerian）環(huán)支架設(shè)計允許放置單個或多個晶片或樣品，并提供多個轉(zhuǎn)動軸的大范圍、高再現(xiàn)性的精確移動控制。
· 可放置直徑 300mm晶片或多個小尺寸晶片、樣品
· “邊緣至邊緣“全晶片測量（無邊緣測量失真現(xiàn)象）
· 可選配特殊環(huán)境樣品臺，如高溫、真空等。
3、探測臺
· 閃爍式高性能點探測器，顯著提高響應(yīng)特性
· 的線探測器（選配件）
4、自動化機械手臂(Robot ) 選配件
可選配全自動化機械手臂，實現(xiàn)直徑≤300mm晶片的全自動化裝卸和測量。
5、系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集
Delta - X衍射儀可以在不同模式下工作，包括菜單式全自動化測量、各個軸的手動準(zhǔn)直和掃描等。
· 利用靈活、簡便的向?qū)?chuàng)建測量菜單
· 自動產(chǎn)生分析報告，提供實時信息和警示
6、專業(yè)用戶功能
專業(yè)用戶可以全面使用Delta - X衍射儀的更多專業(yè)功能?？刂栖浖试S用戶使用從自動操作到手動準(zhǔn)直和測量等的所有操作模式。
· 手動/自動化準(zhǔn)直程序設(shè)置
· 可實現(xiàn)任何方向的專業(yè)掃描模式
· 功能強大的程序腳本
應(yīng)用示例
· 高分辨率X射線衍射和弛豫度(Relaxation)
材料：單晶襯底材料（如Si，GaAs，InP，GaN)和外延層材料，包括多層外延膜結(jié)構(gòu)
參數(shù)：外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應(yīng)變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯底斜切角、外延傾角。
· 三軸X射線衍射和倒易空間Map
材料：單晶襯底材料（如Si，GaAs，InP，GaN)和外延層材料，包括多層外延膜結(jié)構(gòu)
參數(shù)：外延層厚度、組分、弛豫度、晶格應(yīng)變、晶片均勻性、晶格失配、摻雜濃度、襯底斜切角、外延傾角。
· 高分辨X射線衍射(HRXRD) 數(shù)據(jù)示例
- GaN基多量子阱結(jié)構(gòu)
- 硅襯底上生長III - V族材料
· X射線反射(XRR )
材料類型：薄膜
參數(shù)：薄膜厚度、密度、粗糙度
掃描方式：Omega - 2Theta掃描，Omega掃描，2Theta掃描
· X射線衍射(XRD)
材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對于超薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。
參數(shù)：相結(jié)構(gòu)、織構(gòu)、晶粒尺寸、顆粒尺寸、晶胞分析、結(jié)晶度分析、殘余應(yīng)力測定。
· 多晶薄膜的X射線衍射(XRD)
材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對于超薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。
參數(shù)：相結(jié)構(gòu)、晶格常數(shù)、晶粒尺寸
· 多晶薄膜的掠入射X射線衍射(GI - XRD)
材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。對于超薄層材料、納米級厚度的薄膜材料，可以使用掠入射衍射。
參數(shù)：相結(jié)構(gòu)、織構(gòu)、結(jié)晶度
掃描模式： 2Theta掃描(GI - XRD)
· 多晶薄膜的極圖：織構(gòu)測定
材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。
參數(shù)：織構(gòu)
掃描方式： Chi軸和Phi軸的聯(lián)合掃描
· 薄膜的殘余應(yīng)力測定
材料：測量多晶材料、納米材料、多晶薄膜等。
參數(shù)：殘余應(yīng)力
掃描方式： 2Theta軸和Chi軸聯(lián)合掃描
· X射線衍射應(yīng)用示例
- 超薄High - K材料
- 薄膜的殘余應(yīng)力測定
分析軟件
Jordan Valley分析軟件包已經(jīng)擁有超過30年的使用經(jīng)驗，并廣泛應(yīng)用于薄膜材料結(jié)構(gòu)特征的X射線表征。以原英國Bede Scientific公司的分析軟件包為基礎(chǔ)，Jordan Valley分析軟件在研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域都具有廣泛的適用性和優(yōu)異性，并囊括了高分辨率X射線衍射（HRXRD ) 和X射線反射(XRR ) 自動化擬合軟件、通用分析軟件、映射圖繪制和分析軟件等。
- JV RADS：在工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域是飽受好評與信任的軟件，廣泛用于單晶襯底上生長各種外延薄膜的HRXRD 數(shù)據(jù)分析。
- MDI JADE：擁有強大的XRD數(shù)據(jù)分析功能，包括衍射圖譜的閱讀、處理、分析，能夠準(zhǔn)確進行相鑒定分析。
- JV REFS：用于分析X射線反射數(shù)據(jù)的軟件，軟件操作簡便、功能強大，廣泛應(yīng)用在研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域。
- JV Contour：可繪制和展示2D或3D映射圖
- JV PeakSplit：提供了直接分析HRXRD和XRD數(shù)據(jù)的多種功能，對HRXRD或XRD測量數(shù)據(jù)做圖形化展示，并可擬合峰形特征。
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