XTrace是一款可搭配在任意一臺具有傾斜法蘭槽 SEM上的微焦點Ｘ射線源。利用該設備可使SEM具備完整意義上的微區(qū) XRF光譜分析能力。對于中等元素至重元素范圍內的元素，其檢測限提高了 20-50倍。此外，因為Ｘ射線的信號激發(fā)深度深于電子束，利用該設備還可以檢測更深層次樣品的信息。
本設備采用了Ｘ射線毛細導管技術，利用該技術，即使在非常小的樣品區(qū)域也能產生很高的熒光強度。Ｘ射線毛細導管將Ｘ射線源的大部分射線收集，并將其聚焦成直徑35微米的一個Ｘ射線點。
利用QUANTAX EDS*系統(tǒng)的 XFlash®系列電制冷能譜探頭即可對所產生的Ｘ射線熒光光譜進行采集。 XFlash®電制冷能譜探頭使整個系統(tǒng)具備了非常高的能量分辨率，同時兼具了強大的信號采集能力。比如，利用有效面積 30 mm2的探頭在分析金屬元素時的輸入計數(shù)率可達 40 kcps。
Ｘ射線毛細導管技術使熒光強度得到極大的增強，同時，熒光光譜的背底較低，這些都提高了系統(tǒng)對痕量元素的敏感度。相較于電子束激發(fā)的信號，其檢測限可提高 20-50倍。而且，因為Ｘ射線源激發(fā)信號對于高原子序數(shù)元素更有效，所以高原子序數(shù)元素檢測限可提高至 10ppm。
QUANTAX能譜儀系統(tǒng)和微區(qū)熒光光譜儀系統(tǒng)可在同一用戶界面內結合使用，從而互相補強，實現(xiàn)定量分析結果的化。
用戶友好型設計
聚焦于分析任務，而非繁瑣的系統(tǒng)設置
利用ESPRIT HyperMap進行面分布分析的同時采集了所有的數(shù)據并存儲，便于后續(xù)的離線分析。
樣品可利用 EDS系統(tǒng)和 micro-XRF系統(tǒng)并行進行分析，而無需任何的樣品移動。
兩種分析方法無縫整合在同一分析軟件 ESPRIT中，切換分析方法只需輕點鼠標。
XTrace不會干擾任何 SEM及EDS操作。
僅需點滴投入，即可獲得獨立微區(qū)熒光光譜儀的強大功能
分析結果可與獨立系統(tǒng)媲美。
樣品傾斜后可對更大區(qū)域進行面分布
提供三個初級濾片以壓制衍射峰
直接利用掃描電鏡樣品臺，無需其他的樣品臺裝置。
通過掃描電鏡樣品臺的旋轉輕松避免譜圖中衍射峰的出現(xiàn)。
可傾斜樣品以獲得最小束斑直徑。
樣品傾斜前后分辨率比較
（樣品：鉻星狀線條掃描步長： 25 µm左圖：樣品臺未傾斜右圖：樣品臺傾斜 30°以朝向Ｘ射線源，顯示了更好的空間分辨率。）
原理圖
應用實例
XTrace極大地擴展了掃描電鏡元素分析的靈活性。其應用領域包括元素分析（金屬、催化劑等），法醫(yī)學（涂料、玻璃、槍擊殘留物等），地質學及其它很多領域。
多層樣品的表征
利用XTrace對多層樣品進行分析具有特別的優(yōu)勢。因為多層樣品的內部結構比較復雜，僅僅利用能譜儀可能無法觀測到其中的部分結構。
銅的單一元素分布圖
（樣品：PCB多層板左圖：光學圖像；右圖：二次電子圖像）
（左圖: 二次電子圖像區(qū)域中銅元素的微區(qū)熒光光譜面分布圖。白色矩形區(qū)域為右圖能譜儀面分布分析區(qū)域。右圖: 二次電子圖像與能譜儀銅元素面分布圖疊合圖像。白色箭頭所指區(qū)域為焊點，其在微區(qū)熒光光譜面分布圖中可見，但能譜面分布圖中卻觀察不到這些焊點。出現(xiàn)這種差異的原因在于Ｘ射線所激發(fā)出信號的深度更深。 ）
樣品的多重元素分布圖
（Micro-XRF (左)和EDS (右) 的多重元素面分布圖。圖中顯示了 Cu元素、 Ba元素、 Au元素和Al元素。從兩圖對比可以看出，Au元素存在的位置遠比能譜儀元素面分布圖中所顯示的多。）
窮竭其里，讓掃描電鏡能做的更多
（銅合金照片（左）及其 XRF譜圖和EDS譜圖的比較（右）。從紅色XRF譜圖中可看到該樣品中存在很多的痕量元素。從 XRF譜圖的定量分析結果可知該樣品為黃銅 (CuZn33)。）
可靠性更高的金屬和合金鑒別
微區(qū)XRF的高敏感性使其非常適合于合金，尤其是金屬小顆粒，比如發(fā)動機磨損產生的碎片等物質的分析及鑒定。
PCB板元件及電路的分析
利用XRF對于痕量元素的高靈敏度及信號激發(fā)深度的長處來分析此類樣品具有特別的優(yōu)勢。 PCB板可能含有被 RoHS指令禁止的有害元素。這些元素可以被微區(qū) XRF更可靠地檢測出來，特別是 RoHS等指令要求設備具有非常低的檢測限。
聚合物中的金屬及有害元素
聚合物通常被工程采用以實現(xiàn)特定的目的。其中就包含了利用金屬和礦物作為添加物來實現(xiàn)工程目的。利用 XTrace即可探測聚合物中的添加物并表征出其面分布情況。比如， RoHS指令中對玩具類商品的檢測。
PCBd的微區(qū)XRF和EDS面分布分析
（對于同一 PCB樣品區(qū)域的微區(qū) XRF (上圖) 和EDS (下圖)元素面分布圖。兩種分析均采用同一顏色標識同一元素。兩幅圖中可觀察到的不同顏色差異來自于Ｘ射線對于樣品更深的穿透深度。銅元素明顯地富集在更深的結構層。微區(qū) XRF面分布圖中的陰影來自于相對于樣品表面傾斜的Ｘ射線源與樣品表面凹凸不平的形貌特征。陰影效應可通過樣品傾斜朝向Ｘ射線源以減少影響。）
聚合物的圖像及譜圖
一種用于金屬及有害元素檢測測試的標準有機物光學圖像照片?(左) 和譜圖 (右)。微區(qū) XRF譜圖?(紅色) 顯示了 Ni、Hg、Pb及 Br等痕量元素的存在。而這些元素利用 EDS? (藍色) 均無法探測出來。兩種譜圖的采集條件相同，均為輸入計數(shù)率 6 kcps的情況下采集了300秒。
熟悉的操作界面
XTrace分析軟件與布魯克其它微分析設備軟件 EDS, WDS和EBSD一起集成在 ESPRIT軟件中。該集成軟件為用戶提供了無二的便利性
（1）所有的分析工具操作均在同一界面下進行
（2）不同分析工具間的操作切換只需輕點鼠標
（3）對已同一樣品位置可實現(xiàn)不同分析方法的直接應用，無需任何樣品移動
（4）可將不同分析方法取得的結果輕松整合在一起
對于XTrace用戶來說，另一個特別的優(yōu)勢就是用戶可以將 EDS和微區(qū) XRF的定量分析結果互相結合以得到更可靠的定量分析結果。
至強組合 – XRF和EDS定量方法結合以得到更準確的結果
ESPRIT對微區(qū) XRF譜圖進行分析時采用了一種的無標樣基礎參數(shù)法 (Fundamental Parameter，F(xiàn)P)以得到準確、可靠的定量分析結果。當然，還可利用校準標樣進行進一步的優(yōu)化。
利用ESPRIT軟件可同時使用微區(qū) XRF和EDS的定量結果，從而使兩種分析方法的優(yōu)勢均得以體現(xiàn)。對于輕元素， EDS定量分析結果很可靠；同時，微區(qū) XRF在分析中等元素或重元素時其檢測限低至 10 ppm。這就意味著利用 ESPRIT軟件將 EDS和微區(qū) XRF的定量結果結合以后，可得到迄今為止所有其它能量色散譜儀從未得到過的精確結果。
靈活的分析手段
本系統(tǒng)除可利用掃描電鏡樣品臺的移動進行點分析和線掃描外，還可進行單幅或多幅XRF面分布分析。面分布數(shù)據存儲在超級面分布數(shù)據庫 (ESPRIT HyperMap)中，在該數(shù)據庫中存儲著每個點完整的譜圖數(shù)據。利用該數(shù)據庫，可在任意時間進行任何想要的離線分析。
點分析
將鼠標十字光標置于超級面分布圖上的任意一點后，在譜圖欄即會出現(xiàn)該點的譜圖。這樣，方便用戶快速確定目前位置的元素組分情況。
線掃描
在超級面分布圖上任意選擇一條線，即可得到該條線上的元素分布情況，可以是定性性質的線掃描分布圖，也可以是定量性質的線掃描分布圖。
選區(qū)分析
在超級面分布圖上也可以進行選區(qū)分析，在圖上選擇任意的形狀后，比如矩形、橢圓形等等，該區(qū)域內的所有點的成份信息會集成顯示在同一個譜圖中。
相分析
面分布分析的結果有時候非常復雜且難于解釋，特別是樣品中存在多種元素時。此時，利用 ESPRIT自動相分析工具可鑒別出組分相似的區(qū)域并將其歸納為樣品中不同的化學相。
*XTrace requires a pre-installed QUANTAX energy-dispersive X-ray spectrometer (EDS), consisting of XFlash® silicon drift detector, SVE signal processing unit and system PC.
