利用過(guò)濾器的功能,不僅可以進(jìn)行樣品中的元素分析,還能分析化學(xué)結(jié)合狀態(tài),從零損失像和能量過(guò)濾像中獲得感興趣的有用信息。
鏡筒內(nèi)置式Omega過(guò)濾器
鏡筒內(nèi)置式能量過(guò)濾器能獲取高精度的能量過(guò)濾像及電子能量損失譜,優(yōu)化設(shè)計(jì)的過(guò)濾器能提供無(wú)畸變的過(guò)濾像。
控制系統(tǒng)
電子槍、透鏡、過(guò)濾器等電子光學(xué)系統(tǒng)、測(cè)角臺(tái)、抽真空系統(tǒng)等全部由計(jì)算機(jī)控制。系統(tǒng)的穩(wěn)定性高,因此能獲得穩(wěn)定的數(shù)據(jù)
成像系統(tǒng)
采用四級(jí)中間鏡和兩級(jí)投影鏡的新成像系統(tǒng),在很大的倍率和相機(jī)長(zhǎng)度范圍,實(shí)現(xiàn)了TEM像及衍射花樣的磁轉(zhuǎn)角補(bǔ)償(無(wú)磁轉(zhuǎn)角)。
壓電陶瓷控制測(cè)角臺(tái)
新的測(cè)角臺(tái)采用了壓電陶瓷,能順利操作原子級(jí)的視場(chǎng)搜索。
物鏡種類*1 | 分辨率 (UHR)型 | 高分辨率 (HR)型 | 樣品高傾斜 (HT)型 | 樣品冷卻 (CR)型 | 高襯度 (HC)型 |
分辨率 | |||||
點(diǎn)分辨率 晶格分辨率 | 0.19 nm 0.1 nm | 0.23 nm 0.1 nm | 0.25 nm 0.1 nm | 0.27 nm 0.14 nm | 0.31 nm |
能量分辨率 | 0.8 eV(零損失 FWHM) | ||||
加速電壓 | 160 kV,200 kV*2 | ||||
最小步長(zhǎng) 能量位移 | 50 V 3,000 V(以0.2V為步長(zhǎng)) | ||||
電子槍 | |||||
發(fā)射體 | ZrO/W(100) 肖特基式 | ||||
亮度 | ≧4×108 A/cm2 ? sr | ||||
真空度 | ×10-8 Pa 級(jí) | ||||
探針電流 | 探針直徑為1 nm ,在0.5 nA以上 | ||||
穩(wěn)定度 | |||||
加速電壓 | ≦1×10-6/min | ||||
物鏡電流 | ≦1×10-6/min | ||||
過(guò)濾器電流 | ≦1×10-6/min | ||||
物鏡 | |||||
焦距 | 1.9 mm | 2.3 mm | 2.7 mm | 2.8 mm | 3.9 mm |
球差系數(shù) | 0.5 mm | 1.0 mm | 1.4 mm | 2.0 mm | 3.3 mm |
色差系數(shù) | 1.1 mm | 1.4 mm | 1.8 mm | 2.1 mm | 3.0 mm |
最小焦距步長(zhǎng) | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.8 nm | 2.0 nm | 5.2 nm |
束斑尺寸 | |||||
TEM 模式 | 2 ~ 5 nm | 7 ~30 nm | |||
EDS 模式 | 0.5 ~ 2.4 nm | 1.0 ~2.4 nm | - | 4 ~20 nm | |
NBD 模式 | - | - | |||
CBD 模式 | 1.0 ~2.4 nm | - | |||
電子束衍射 | |||||
衍射角(2α) | 1.5 to 20 mrad or more | - | |||
取出角 | ±10 ° | - | |||
倍率 | |||||
MAG 模式 | ×2,000 ~ 1,500,000 | ×2,000 ~ 1,200,000 | ×1,500 ~ 1,000,000 | ×1,200 ~ 600,000 | |
LOW MAG 模式 | ×50 to1,500 | ||||
SA MAG 模式 | ×10,000 ~ 800,000 | ×8,000 ~ 600,000 | ×8,000 ~500,000 | ×5,000 to 400,000 | |
能量過(guò)濾像 有效視場(chǎng)大小 | 80 mm dia. on final image plane (film) when 10 eV is selected 25 mm dia. on final image plane (film) when 2 eV is selected | ||||
相機(jī)長(zhǎng)度 | |||||
選區(qū)電子衍射 | 150 ~ 1,500mm | 200 ~ 2,000 mm | 250 ~ 2,500 mm | 300 ~ 3,000 mm | |
EELS 散射 | |||||
狹縫上 | 1.2 μm/eV, 200 kV | ||||
最終像平面 | 50 ~ 300 μm/eV, 200 kV | ||||
樣品室 | |||||
移動(dòng)量(XY / Z) | 2mm/0.2mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm |
傾斜角(X / Y)*3 | ±25°/±25° | ±35°/±30° | ±42°/±30° | ±15°/±10° | ±38°/±30° |
傾斜角(X)*4 | ±25° | ±80° | ±80° | ±80° | ±80° |
EDS*5 | |||||
固體角*6 | 0.13 sr | - | 0.09 sr | ||
取出角 | 25° | - | 20° |
*1 : 訂貨時(shí)請(qǐng)選擇物鏡種類。
*2 : 加速電壓80、100、120 kV時(shí),可使用加速管短路開(kāi)關(guān)(選配件)
*3 : 使用雙傾樣品桿
*4 : 高傾斜樣品臺(tái)使用
*5 : EDS為選配件
*6 : 安裝30mm2 檢測(cè)器時(shí)的數(shù)值