納米表面輪廓儀
IMOS納米表面輪廓儀實現了精確、定量、iso兼容、非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征，在短短幾秒鐘內可捕獲多達200萬個數據點。選擇正確的光學輪廓儀系統(tǒng)取決于您的應用程序的要求，包括速度、精度、垂直范圍、自動化和靈活性。
IMOS光學表面輪廓儀在非接觸式光學表面輪廓方面提供了強大的通用性。有了該系統(tǒng)，它可以方便快捷地測量各種表面類型，包括光滑、粗糙、平坦、傾斜和階梯。所有的測量都是無損的，快速的，不需要特殊的樣品準備。納米表面輪廓儀系統(tǒng)的核心是部分相干光干涉技術，它提供亞納米精度測量更廣泛的表面比其他商業(yè)可用技術。
IMOS 納米表面輪廓儀提供了不同的應用程序的特殊價值，如平直，粗糙度，波浪形，臺階高度等等。
IMOS 納米表面輪廓儀配備了一個頭，可以填充離散變焦光學定制的系統(tǒng)。樣本分段配置范圍從自動化到自動化的編碼行程。
IMOS 納米表面輪廓儀提供高精度測量，易于使用，快速測量，及吸引力的價格，使其成為多功能3D光學輪廓儀的理想選擇。
主要優(yōu)點:
納米模式下的Z軸分辨率:
~ 30pm微起伏模式(使用原子級光滑鏡)
~ 0.3um微地貌模式下
外形緊湊;
快速響應;
抗外部振動;
測量過程自動化程度高;
特殊的用戶友好的界面;
高質量的圖形界面，以工作與多計劃三維表示的測量結果;
廣泛的可能性配置的顯微鏡，以各種形態(tài)-邏輯的測量表面;
能夠工作在兩種模式:微浮雕和納米浮雕;
的存儲系統(tǒng)和測量結果的系統(tǒng)化。
在硅基板上的Pd薄膜，高度100nm硅晶體表面的階地，高度為0.314nm在硅基板上的Pd薄膜，高度100nm
微起伏模式下的測量結果 | IMOS納米表面輪廓儀組成 |
 | 光電探測器* 矩形-1392*1040 px |
| 光源 * LED (λeff = 630 nm) | |
| 顯微物鏡* 20x (or 10x, 5x) 2 items 放大率不變 | |
 | 掃描 |
位移臺
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控制器
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| 硅晶體表面的階地，高度為0.314nm | |
 | 計算機 |
軟件
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| 認證口徑，標稱高度值為101nm±3% | * – 按客戶需求 |
微地貌模式下的測量結果 | 技術指標 |
 | 測量區(qū)域 0,4x0,3 mm2 (for 20X) |
| 像素尺寸 0,3 μm (for 20X) | |
| 橫向分辨率 Not worse 1 μm | |
測量模式
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| 認證口徑, 厚 40 ± 1,2 μm | |
 | Z軸分辨率
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測量范圍
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測量速度
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| 衍射元件, 厚 3,7 μm | |
