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耀先 沸石轉(zhuǎn)輪+燃燒設(shè)備 簡(jiǎn)介
沸石轉(zhuǎn)輪+燃燒設(shè)備 是將大風(fēng)量、低濃度的廢氣濃縮到高濃度、小風(fēng)量的廢氣,從而減少設(shè)備的投入費(fèi)用和運(yùn)行成本,提高voc廢氣的處理效率。在處理大風(fēng)量、低濃度的廢氣燃燒和回收的時(shí)候,如果沒有沸石轉(zhuǎn)輪,直接進(jìn)行燃燒的情況下,廢氣處理設(shè)備不僅體積龐大,而且產(chǎn)生的運(yùn)行費(fèi)用也會(huì)很龐大。 沸石轉(zhuǎn)輪吸附濃縮裝置采用吸附-脫附-濃縮焚化三項(xiàng)連續(xù)程序,主要用于有機(jī)廢氣的治理; 特別適合于大風(fēng)量,低濃度場(chǎng)合。該吸附裝置以陶瓷纖維為基材,做成蜂窩狀的大圓盤輪狀系統(tǒng), 輪子表面涂覆疏水性沸石做吸附劑。沸石轉(zhuǎn)輪吸附濃縮裝置主要由廢氣預(yù)處理系統(tǒng)、分子篩轉(zhuǎn)輪濃 縮吸附系統(tǒng)、脫附系統(tǒng)、冷卻干燥系統(tǒng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。轉(zhuǎn)輪后一般有后處理系統(tǒng),處理工藝為沸石轉(zhuǎn)輪+RCO、沸石轉(zhuǎn)輪+RTO。
耀先 沸石轉(zhuǎn)輪+燃燒設(shè)備 工作原理
沸石轉(zhuǎn)輪主體為一個(gè)裝滿吸附劑的旋轉(zhuǎn)輪,其被劃分為3個(gè)區(qū)域,即吸附區(qū)、再生區(qū)和冷卻區(qū)。有機(jī) 廢氣經(jīng)鼓風(fēng)機(jī)引入吸附區(qū),其中的有機(jī)污染物被吸附,氣體得到凈化排出。隨后,吸附劑轉(zhuǎn)動(dòng)到再 區(qū),在與高溫空氣接觸的過程中,VOCS被脫附下來并隨再生空氣流出,同時(shí)吸附劑獲得再生。 再生后的吸附劑先經(jīng)過冷卻區(qū)降溫,然后轉(zhuǎn)動(dòng)到吸附區(qū)重新進(jìn)行吸附。隨著轉(zhuǎn)輪的轉(zhuǎn)動(dòng),吸附劑周期性地進(jìn)行吸附、脫附和冷卻,實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)廢氣的凈化。
1:吸附濃縮
煙氣通過轉(zhuǎn)輪內(nèi)的沸石被吸附,以系統(tǒng)抽氣變頻風(fēng)機(jī)將干凈尾氣排入大氣; 吸附器可提供大量的氣體接觸沸石表面積,轉(zhuǎn)輪持續(xù)以每小1~6轉(zhuǎn)的速度旋轉(zhuǎn)。
2:脫附
轉(zhuǎn)輪內(nèi)VOCs被濃縮成飽和沸石區(qū)、再利用熱交換器提供的熱流(約200℃)來進(jìn)行脫附,脫附完成后旋轉(zhuǎn)至冷卻區(qū),以常溫空氣吹噓冷卻至常溫、再旋轉(zhuǎn)至吸附濃縮區(qū)。
耀先 沸石轉(zhuǎn)輪+燃燒設(shè)備 工藝組合
>>沸石轉(zhuǎn)輪+RCO
>>沸石轉(zhuǎn)輪+RTO
耀先 沸石轉(zhuǎn)輪+燃燒設(shè)備 特點(diǎn)
>>沸石轉(zhuǎn)輪設(shè)備優(yōu)勢(shì)
①轉(zhuǎn)輪濃縮比高,濃縮比高達(dá)20:1, 使原本高風(fēng)量、低濃度的V〇CS廢氣,轉(zhuǎn)換成低風(fēng)量、高濃度的廢氣;
②轉(zhuǎn)輪使用壽命長(zhǎng),無需定期更換吸附材料;
③系統(tǒng)自動(dòng)控制,自動(dòng)化程度高, 單鍵啟動(dòng),橾作簡(jiǎn)單,并可搭配人機(jī)界面監(jiān)控重要操作數(shù)據(jù) ;
④操作簡(jiǎn)單,運(yùn)行安全可靠, 整體系統(tǒng)采用模組化設(shè)計(jì),具備了小的空間需求,且提供了持續(xù)性及無人化的操控模式;
⑤天然沸石在吸附濃縮芳香族類廢氣性能*;
⑥能夠處理相對(duì)濕度較高的廢氣;
⑦沸石轉(zhuǎn)輪吸附VOCS所產(chǎn)生的壓降極低,可大大減少電力能耗,運(yùn)行成本更低。
>>耀先吸附材料優(yōu)勢(shì)
1、蜂窩狀分子篩的主要材料是天然沸石,是由SiO2、Al2O3和堿性金屬或堿土金屬組成的無機(jī)微孔材料;
2、具有均勻微孔,其孔徑與一般分子大小相當(dāng),內(nèi)孔體積占總體積的40-50%,比表面積300-1000 m2/g;
3、由于孔徑分布均一,結(jié)構(gòu)和組成變化明顯,具有耐高溫、不可燃、良好的熱穩(wěn)定性和水熱穩(wěn)定性等特點(diǎn)。
耀先 沸石轉(zhuǎn)輪+燃燒設(shè)備 適用領(lǐng)域
● 適用于低濃度、大風(fēng)量的VOCs處理;
● 廣泛應(yīng)用于噴涂、印刷、半導(dǎo)體、液晶及化學(xué)等各種工序中;
● 適用于處理苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、己烷、環(huán)己烷、MEK、MIBK、丙酮、乙酸乙酯、NMP、THF、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇及各種氯體系溶劑等。