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反應(yīng)離子刻蝕機(RIE）

參考價	￥10-￥280/臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
品牌其他品牌
型號DISC-RIE-6
所在地北京市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時間2024/4/9 9:57:18
訪問次數(shù)165

產(chǎn)品標簽:

等離子刻蝕反應(yīng)離子刻蝕 RIE

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公司介紹主營產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來公司將不斷和引進在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品，同時也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系，致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作，為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。

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電子束曝光系統(tǒng)，刻蝕設(shè)備，鍍膜設(shè)備，光刻機

產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)地	國產(chǎn)

反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學(xué)反應(yīng)，同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用

反應(yīng)離子刻蝕機(RIE）產(chǎn)品信息

應(yīng)用方向：科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢：刻蝕速率控制方便，耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等

★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)

★Load-Lock：低真空系統(tǒng) 或高真空系統(tǒng)。雙片裝，樣品自動運送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺：可升降，包含水冷

★電源配置：下電偏壓，包含自動匹配