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磁控濺射鍍膜設(shè)備

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更新時(shí)間：2024-10-05 08:36:54瀏覽次數(shù)：97次

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磁控濺射鍍膜設(shè)備主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)

詳細(xì)介紹



        磁控濺射鍍膜設(shè)備主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進(jìn)行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點(diǎn)。

磁控濺射設(shè)備應(yīng)用

  • 鉆頭鍍膜、銑刀鍍膜、模具鍍膜
  • 建筑玻璃鍍膜和汽車玻璃鍍膜用光學(xué)鍍膜設(shè)備
  • 磁控濺射連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線
  • 光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀鍍制的反射膜
  • 增透膜和吸收膜


磁控濺射設(shè)備參數(shù)

  • 艙體尺寸：1200×1500、1400×1950、1600×1950、1800×1950
  • 電源類型：直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源
  • 圓柱靶：直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶
  • 艙體結(jié)構(gòu)：立式開(kāi)門(mén)
  • 真空系統(tǒng)：滑閥泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+維持泵（可選裝：分子泵、深冷泵）
  • 氣路系統(tǒng)：1-4路MFC
  • 極限真空：6×10－4pa（空載）
  • 抽氣時(shí)間：空載大氣抽至5×10－3pa小于13分鐘
  • 旋轉(zhuǎn)方式：6軸、8軸、9軸公自轉(zhuǎn)，變頻無(wú)級(jí)調(diào)速
  • 控制方式：全自動(dòng)、觸摸屏+PLC

關(guān)鍵詞：顯微鏡 測(cè)距儀
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