濺射蒸碳儀 掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備蒸發(fā)儀 濺射蒸碳分析儀
型號(hào):HG19-ETD-2000C
是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

特點(diǎn)：

增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。

配置參數(shù)：

- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）

- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）

- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）

- 樣品臺(tái)： 50mm (D)

- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar

- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)

- 濺射電流： 0-50mA

- 濺射定時(shí)： 1-9999S

- 蒸碳電流 0-10A(AC)

- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）