環(huán)保在線
詳細介紹
產(chǎn)品特點
超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，精準的控制設備運行；
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè)，半導體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板等離子表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
真空等離子清洗機生產(chǎn)廠家誠峰智造使用的等離子體是被電離產(chǎn)生的氣體，它包括電子、離子和自由基等物質(zhì)。等離子體與外加磁場相互作用影響，這種作用會影響其內(nèi)部磁場中的帶電離子，提高了等離子體的流體特性，進而造成集團效應如流動性、起伏、不穩(wěn)定和自組織性。每種等離子體中的顆粒都具備相對單獨運動能量分布，而且每種顆粒所保持的能量并不可以一直維持等值均衡。等離子體內(nèi)部能量由熱能、電場能和輻射場構(gòu)成，它們互相影響、互相轉(zhuǎn)換，使等離子體在一個更寬的范疇內(nèi)，在相互連接多維度參數(shù)空間存在。
在觸碰等離子體后，材料都是會產(chǎn)生一系列物理、化學反應。等離子體生產(chǎn)技術(shù)生產(chǎn)廠家在完成材料生產(chǎn)加工生產(chǎn)制造的同時，也完成了對材料自身的改性，提升了材料的額外使用價值。真空等離子清洗機由真空發(fā)生系統(tǒng)、電子控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔、機械等好多個部分構(gòu)成，可依據(jù)顧客的特別要求，訂制客戶滿意的真空設備。真空清洗機采用數(shù)控加工技術(shù)，自動化技術(shù)水平高；具備高精密的控制設備；由于是在真空環(huán)境中開展處理，不會造成環(huán)境污染，確保清洗表層不會受到二次污染。
真空等離子清洗機可用于聚四氟及聚四氟化合物的蝕刻，塑膠、夾層玻璃、瓷器的表層活性清洗，也可用以汽車電子產(chǎn)品、電子器件、PCB生產(chǎn)制造等精密加工行業(yè)。
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名稱（Name） | 真空式等離子處理系統(tǒng) |
型號（Model） | CRF-VPO-10L-S |
控制系統(tǒng)（Control system） | PLC+觸摸屏 |
電源（Power supply） | 380V/AC,50/60Hz, 3kw |
射頻電源功率（RF Power） | 600W/13.56MHz |
容量（Volume ） | 120L(Option) |
層數(shù)（Electrode of plies ） | 8(Option) |
有效處理面積（Area） | 400(L)*300(W)(Option) |
氣體通道（Gas） | 兩路工作氣體可選：Ar、N2、H2、CF4、O2 |
外形（Appearance ） | 鈑金結(jié)構(gòu) |
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