上海奕縱精密儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： 19JPC-2C型影像式工具顯微鏡是采用計(jì)算機(jī)和圖像處理系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)量的新一代工具顯微鏡，能解決各種復(fù)雜的二維測(cè)量問(wèn)題。 傳統(tǒng)的萬(wàn)工顯對(duì)于視場(chǎng)中不能直接觀測(cè)到的幾...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-05-26 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 量塊是長(zhǎng)度計(jì)量的實(shí)物基準(zhǔn)，量塊的各項(xiàng)精度指標(biāo)符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)及標(biāo)準(zhǔn)，可按GB/T,或DIN861標(biāo)準(zhǔn)制造。量塊是一種無(wú)刻度的標(biāo)準(zhǔn)端面量具，其制造材料為特殊合金鋼,形...
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詳細(xì)摘要： DX-100數(shù)據(jù)處理測(cè)長(zhǎng)儀是光、機(jī)、電、算一體化的長(zhǎng)度計(jì)量?jī)x器，除可用于對(duì)零件的內(nèi)外尺寸進(jìn)行測(cè)量和比較測(cè)量外，還可使用儀器所帶的專(zhuān)用附件組合進(jìn)行各種特殊測(cè)量，該...
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詳細(xì)摘要： 三等標(biāo)準(zhǔn)金屬線(xiàn)紋尺
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詳細(xì)摘要： 玻璃線(xiàn)紋尺主要是用于比長(zhǎng)儀、輪廓投影儀、二次元影像測(cè)量?jī)x、工具顯微鏡、測(cè)量機(jī)等長(zhǎng)度測(cè)量工具中作為測(cè)量校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)計(jì)量部件，測(cè)量精度符合JJG73-2005計(jì)量...
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詳細(xì)摘要： 1、平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度，以及儀器量具...
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詳細(xì)摘要： 630*400mm大理石平臺(tái)/檢驗(yàn)平臺(tái)
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詳細(xì)摘要： 1500*1000mm大理石平臺(tái)/檢驗(yàn)平臺(tái)
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詳細(xì)摘要： 1600*1000mm大理石/花崗巖平臺(tái)
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詳細(xì)摘要： 2000*1000mm大理石平臺(tái)/檢測(cè)平臺(tái)
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詳細(xì)摘要： 1000*630mm大理石平臺(tái)/檢測(cè)平臺(tái)
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詳細(xì)摘要： 大理石平臺(tái)是一種大理石精密量具、精密檢測(cè)平臺(tái)，又名花崗石平板，采用"優(yōu)質(zhì)材料"經(jīng)機(jī)械加工和手工研磨加工制成，大理石平臺(tái)主要礦物成分為輝石，斜長(zhǎng)石，少量橄欖石，黑...
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詳細(xì)摘要： 1、平面光帶檢測(cè)儀是由平面平晶和鈉光燈箱組成的一套平面度檢測(cè)儀，又叫平面光帶檢測(cè)儀，其中采用的1級(jí)平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的被測(cè)量面...
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詳細(xì)摘要： 1、機(jī)械密封件平面度檢測(cè)儀是由平面平晶和鈉光燈箱組成的一套平面度檢測(cè)儀，又叫平面光帶檢測(cè)儀，其中采用的1級(jí)平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的...
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詳細(xì)摘要： 1、機(jī)械密封件平面度檢測(cè)儀是由平面平晶和鈉光燈箱組成的一套平面度檢測(cè)儀，又叫平面光帶檢測(cè)儀，其中采用的1級(jí)平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的...
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詳細(xì)摘要： 1、機(jī)械密封件平面度檢測(cè)儀是由平面平晶和鈉光燈箱組成的一套平面度檢測(cè)儀，又叫平面光帶檢測(cè)儀，其中采用的1級(jí)平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的...
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詳細(xì)摘要： 三等標(biāo)準(zhǔn)金屬線(xiàn)紋尺
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詳細(xì)摘要： 三等金屬線(xiàn)紋尺|一級(jí)線(xiàn)紋米尺
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詳細(xì)摘要： 1、平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度，以及儀器量具...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2021-05-25 在線(xiàn)留言
詳細(xì)摘要： 1、平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶測(cè)量面與工件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度，以及儀器量具...
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