暫無信息 |
您好, 歡迎來到環(huán)保在線! 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當前位置:重慶開衡科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>cvd系統(tǒng)
連續(xù)進出料可回轉CVD系統(tǒng) BTF-1200C-II-R-CVD 實驗室臭氧發(fā)生機
1、主要特點該設備爐管可360°旋轉,有助于粉料的燒結更均勻,可大角度傾斜,方便進出料,傾斜角度在0-35°之間滑軌式CVD系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-SL-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款設備是專為生長石墨烯研制的石墨烯薄膜生長專用爐,也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗,溫區(qū)可獨立程序控制,設備操作時可將實驗需要的恒定高溫直...國產(chǎn)高真空CVD系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-II-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此套設備是由1200℃雙溫區(qū)開啟式管式爐、三路質量流量計及低真空系統(tǒng)組成,根據(jù)工藝要求亦可選配高真空系統(tǒng)1700度高溫CVD系統(tǒng)(型號:BTF-1700C-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款1700℃高溫CVD系統(tǒng),是由1700度管式爐、三路質量流量計系統(tǒng)以及國產(chǎn)高真空系統(tǒng)(或選配低真空系統(tǒng))所組成迷你型CVD系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-S-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款CVD系統(tǒng)是由1200℃開啟式迷你真空管式爐、氣路系統(tǒng)和低真空機組組成進口高真空CVD系統(tǒng)(BTF-1700C-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點爐體采用硅鉬棒加熱Z高溫度可至1650℃,高真空系統(tǒng)采用進口分子泵機組,一鍵操作,簡潔方便,無噪音,同時配高精度的質量流量計系統(tǒng)低真空CVD系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點該設備是由1200度開啟式管式爐、精密的質量流量控制系和真空系統(tǒng)所組成二維材料設備CVD系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-II-SL-CVD) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款CVD系統(tǒng)前端配有可加熱到400℃的預加熱器,輔助二維材料蒸發(fā),后端為雙溫區(qū)管式爐,溫度控制精確,操作簡便雙獨立爐膛滑動滑軌爐BTF-1200C-II-SSL-CVD 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點1.此款設備提供兩個獨立滑動的溫場,兩溫場獨立控制,每個溫場的加熱區(qū)的長度為230mm,可在實驗過程中推進或推離樣品,提供兩個位置的快升降溫流化床—化學氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設備 實驗室臭氧發(fā)生機
設備簡介:流化床—化學氣相沉積法可控及批量制備碳納米管設備,該設備包括有:自動加液裝置、超聲波霧化發(fā)生裝置、氣體供應裝置、氣體流量控制裝置、三溫區(qū)流化床反應器及...復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備,可以實現(xiàn)在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學沉積上氧化物(SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2)和復合氧化物(Al2...高真空自動循環(huán)設備(型號:BTF-1200C-HV) 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點該款設備由我公司和新疆理化技術研究所共同研制的高真空自動循環(huán)設備,內外雙熱電偶控制,內熱電偶制動,使用者可以設定設備循環(huán)溫度點,可根據(jù)內熱電偶測得的溫度...低真空CVD系統(tǒng) (BTF-1500C-3ZL) 實驗室臭氧發(fā)生機
設備特點此款CVD系統(tǒng)是由多通道高精度的質量流量計、低真空機組以及1500度高溫管式爐組成低真空CVD系統(tǒng)(BTF-1200C-III-SL-4ZL) 實驗室臭氧發(fā)生機
低真空CVD系統(tǒng)(BTF-1200C-III-SL-4ZL)雙溫區(qū)磁力拉桿設備BTF-1200C-II-SL 實驗室臭氧發(fā)生機
主要特點此設備具有兩個獨立的溫場,溫場之外配有磁力拉桿和石英料舟,并配有內探熱電偶,可實現(xiàn)在實驗過程中將固態(tài)源(如硫粉、硒粉等)推進熱場,并同時可檢測溫度請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責,環(huán)保在線對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規(guī)避購買風險,建議您在購買產(chǎn)品前務必確認供應商資質及產(chǎn)品質量。