無接觸式電阻率型號(hào)厚度綜合測(cè)試儀HS-RW-200
產(chǎn)品介紹:
HS-RW-200型無接觸式電阻率型號(hào)厚度綜合測(cè)試儀是基于渦流測(cè)試技術(shù)、電容測(cè)試技術(shù),能夠?qū)Π雽?dǎo)體晶片進(jìn)行無接觸、無損傷的電阻率、型號(hào)以及厚度測(cè)試,綜合測(cè)試大大節(jié)省測(cè)試時(shí)間。
無接觸式電阻率型號(hào)厚度綜合測(cè)試儀-產(chǎn)品特點(diǎn)
■采用渦流法測(cè)試晶片電阻率
■采用電容法測(cè)試晶片厚度
■無接觸、無損傷快速測(cè)試
■測(cè)試前無需表面處理
■特別對(duì)于多晶,能夠有效避免晶界對(duì)測(cè)試的影響
■電阻率測(cè)試范圍:0.001-1-20 ohm.cm
■厚度測(cè)試范圍:200-1200um
無接觸式電阻率型號(hào)厚度綜合測(cè)試儀-技術(shù)指標(biāo)
- 晶片可測(cè)量電阻率范圍:0.001-1-2Ohm.cm
- 晶片可測(cè)量厚度范圍:200-1200um
- 測(cè)量時(shí)間:1Point/s
- 晶片直徑:40-200mm
- *使用溫度:23℃±3
- 濕度:≤80%
- 氣壓:86-106kPa
- 使用電壓:220±10V
- 頻率:50±3Hz
- 功率消耗:≤50W
- 尺寸(LxH):410x310x270mm 重量:15kg
典型客戶
美國(guó),歐洲,亞洲及國(guó)內(nèi)太陽(yáng)能及半導(dǎo)體客戶。