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四川省微電瑞芯科技有限公司
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更新時間：2023-06-17 18:51:09瀏覽次數(shù)：213次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線日立離子研磨儀標準機型IM4000Ⅱ能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉移等各種選配功能，針對不同樣品進行截面研磨。
日立離子研磨儀標準機型IM4000Ⅱ能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉移等各種選配功能，針對不同樣品進行截面研磨。
品 牌：Hitachi
產(chǎn) 地：日本
低溫控制功能：將液氮裝入杜瓦罐中，以此作為冷卻源間接冷卻樣品。IM4000Ⅱ配有溫度調節(jié)控制功能，以防止樹脂和橡膠樣品過冷。
真空轉移功能：離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態(tài)下直接轉移到SEM*1、AFM*2上。真空轉移功能與低溫控制功能可同時使用。（平面研磨真空轉移功能不適用低溫控制功能）。
日立離子研磨儀能夠進行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉移等各種選配功能，針對不同樣品進行截面研磨。
離子束加工是在真空條件下，離子槍中低壓惰性氣體離子化，出射的陽離子又經(jīng)加速，獲得具有一定速度的離子束投射到樣品表面，由于離子帶正電荷，其質量比電子大數(shù)千、數(shù)萬倍，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動能，靠微觀的機械撞擊能量加工樣品。
高效率的截面研磨
配備截面研磨能力達到500 µm/h*1以上的高效率離子槍。因此，即使是硬質材料，也可以高效地制備出截面樣品。
復合型研磨儀
截面研磨
即使是由不同硬度以及研磨速度材質所構成的復合材料，也可以通過IM4000Ⅱ制備出平滑的研磨面優(yōu)化加工條件，降低因離子束所致樣品的損傷。
可裝載20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的樣品
截面研磨的主要用途
金屬以及復合材料、高分子材料等樣品的截面制備
含有裂縫和空隙等特定位置的樣品截面制備
多層樣品的截面制備以及對樣品EBSD分析的前處理。
平面研磨
直徑約為5mm范圍內的均勻加工
應用領域廣泛
可裝載直徑50 mm × 高度25 mm的樣品
可選擇旋轉和擺動（±60度，±90度的擺動）2種加工方法
平面研磨的主要用途
去除機械研磨中難以消除的細小劃痕和形變
去除樣品表層部分
消除因FIB加工所致的損傷層
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