1.設(shè)備簡(jiǎn)介　　該設(shè)備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作，對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國(guó)內(nèi)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開(kāi)發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障?！　≡撛O(shè)備標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶，一臺(tái)500W直流濺射電源(用于濺射金屬導(dǎo)電材料)，1臺(tái)300W全自動(dòng)匹配射頻濺射電源(用于濺射絕緣材料)，主要用來(lái)

詳細(xì)介紹

　　1.設(shè)備簡(jiǎn)介

　　該設(shè)備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作，對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國(guó)內(nèi)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開(kāi)發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。

　　該設(shè)備標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶，一臺(tái)500W直流濺射電源(用于濺射金屬導(dǎo)電材料)，1臺(tái)300W全自動(dòng)匹配射頻濺射電源(用于濺射絕緣材料)，主要用來(lái)開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。

　　2.主要技術(shù)參數(shù)

　　2.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接;

　　2.2 樣品臺(tái)尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào);可加熱至600℃;

　　2.3 真空系統(tǒng)：機(jī)械泵(TRP-12,3L/S)+脂潤(rùn)滑分子泵(FF-63/80,70L/s);GDC-25b電磁擋板閥，DN63mm 限流閥;

　　2.4 極限真空：8.0×10-5Pa;

　　2.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 20min;

　　2.6 真空測(cè)量：全量程復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍：105Pa～10-5Pa;

　　2.7 磁控靶：Φ2英寸2只(含靶擋板)，兼容直流電源和射頻電源;

　　2.8 濺射電源：1臺(tái)500W直流濺射電源和1臺(tái)300W全自動(dòng)匹配射頻電源;

　　2.9 質(zhì)量流量計(jì)：進(jìn)口20sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各一套;

　　2.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能;

　　2.11設(shè)備外形：L60cm×W60cm×H96cm機(jī)電一體化機(jī)架，預(yù)留1個(gè)KF40及1個(gè)CF35法蘭接口;

　　2.12 設(shè)備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制(一火一零一地);

　　2.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設(shè)備相關(guān)需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水;

　　3.設(shè)備主要配置表

真空腔室	Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼
分子泵	脂潤(rùn)滑分子泵(FF-63/80,70L/s)
前級(jí)泵	機(jī)械泵，北儀優(yōu)成
真空規(guī)	全量程真空規(guī)，成都睿寶
濺射靶	Ф2英寸永磁靶2支（含靶擋板），維意真空
濺射電源	500W直流濺射電源1臺(tái)，300W全自動(dòng)匹配射頻電源1臺(tái)
流量計(jì)	20sccm/50sccm進(jìn)口Line Tech
控制系統(tǒng)	PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)1套，維意真空
冷水機(jī)	LX-300，維意真空
前級(jí)閥	GDC-25b電磁擋板閥1套，維意真空
旁路閥	GDC-25b電磁擋板閥1套，維意真空
限流閥	DN63mm一套，維意真空
充氣閥	Φ6mm，電磁截止閥1套，七星華創(chuàng)
放氣閥	Φ6mm，電磁截止閥1套，七星華創(chuàng)
基片臺(tái)	Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào)，可加熱至600℃，維意真空
真空管路	波紋管、真空管道等1套，維意真空
設(shè)備機(jī)架	機(jī)電一體化，維意真空
預(yù)留接口	CF35法蘭一個(gè)，維意真空
備件	CF35銅墊圈及氟密封圈全套等，維意真空

　　4.設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)

　　4.1 實(shí)用性：

　　4.1.1 設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以放置于實(shí)驗(yàn)桌面上即可;

　　4.1.2通過(guò)更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;

　　4.2 方便性：

　　4.2.1 設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔性;

　　4.2.2 設(shè)備可將主機(jī)置于手套箱內(nèi)，水、電、氣等通過(guò)4個(gè)KF40接口接到手套箱外，與手套箱的對(duì)接靈活方便;

　　4.2.3 設(shè)備工作電壓為220V，整機(jī)功率小于2KW，對(duì)實(shí)驗(yàn)室的供電要求低;

　　4.3 穩(wěn)定性：

　　4.3.1設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國(guó)內(nèi)品牌，保證了設(shè)備的質(zhì)量及穩(wěn)定性;

　　4.4 性：

　　4.4.1 獨(dú)立開(kāi)發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)，具有智能控制模式和調(diào)試維修模式;

　　4.4.2 控制系統(tǒng)具備漏氣自檢與提示功能，當(dāng)設(shè)備漏氣時(shí)，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)提示設(shè)備漏氣，以便用戶進(jìn)行檢漏，保證設(shè)備正常穩(wěn)定運(yùn)行;

　　4.4.3 控制系統(tǒng)具備保養(yǎng)維護(hù)提示功能，當(dāng)設(shè)備運(yùn)行達(dá)到一定時(shí)長(zhǎng)，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)提示設(shè)備需要維護(hù)保養(yǎng)，以便用戶及時(shí)進(jìn)行維護(hù)，保證設(shè)備正常穩(wěn)定運(yùn)行;

　　4.4.4 控制系統(tǒng)具備通訊故障自檢功能，系統(tǒng)對(duì)分子泵、濺射電源、真空規(guī)、電機(jī)、流量計(jì)等部件的通訊進(jìn)行自檢，如果某個(gè)部件出現(xiàn)故障，可以按照系統(tǒng)中的各部件故障查詢辦法進(jìn)行查詢，及時(shí)確認(rèn)故障原因，保證設(shè)備安全;

　　4.4.5 控制系統(tǒng)具備數(shù)據(jù)記錄與導(dǎo)出功能，控制系統(tǒng)記錄設(shè)備的操作記錄及鍍膜過(guò)程數(shù)據(jù)，可以在系統(tǒng)中查看這些數(shù)據(jù)，也可以用U盤(pán)導(dǎo)出這些數(shù)據(jù);

　　4.4.6 該系統(tǒng)具備三個(gè)等級(jí)級(jí)密碼保護(hù)功能，不同等級(jí)不同使用權(quán)限，確保設(shè)備的安全性和數(shù)據(jù)的保密性;

　　5.設(shè)備安裝條件(用戶自備)

　　5.1 供電要求

　　5.1.1 設(shè)備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制(一火一零一地);

　　5.1.2 插座距離設(shè)備尺寸≤2m;

　　5.1.3 其它：如用戶選配冷卻循環(huán)水機(jī)或其它選購(gòu)件，用戶自行準(zhǔn)備增配件的供電要求，不在安裝條件范圍內(nèi);

　　5.2供水要求

　　5.2.1 設(shè)備需水冷的部件有磁控靶、膜厚儀探頭(如選配膜厚控制系統(tǒng));

　　5.2.2 水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃;

　　5.3安裝場(chǎng)地大小要求

　　設(shè)備尺寸為：長(zhǎng)×寬: L60cm×W60cm，建議安裝場(chǎng)地尺寸≥L60×W80cm。

　　5.4 其他要求