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光解除臭設(shè)備本公司采用的半導體是目前反應(yīng)效率納米TiO2光催化劑,經(jīng)過特殊處理后使用,達到理想效果
工業(yè)廢氣光解凈化設(shè)備氧化性強：半導體光催化具有氧化性強的特點
光解式廢氣凈化設(shè)備，由于在光催化氧化反應(yīng)過程中無任何添加劑，所以 不會產(chǎn)生二次污染。
破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。
uv光解設(shè)備廠家利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。
uv光解設(shè)備利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。
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