高純水設(shè)備主在應(yīng)用于電子,電鍍,醫(yī)療,光學(xué),光電等工業(yè)領(lǐng)域,其工藝設(shè)計(jì)科學(xué)合理，機(jī)體小巧，性能*，設(shè)備占地面積小，安全環(huán)保
一、超純水，純水設(shè)備，超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
我公司電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
二、應(yīng)用場(chǎng)合：
☆電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
☆電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
☆顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水
☆ 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水
☆液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液
☆晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
☆ 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
☆高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)
☆半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗
☆超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料
☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間
☆汽車、家電表面拋光處理
☆光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品
三、典型超純水，純水設(shè)備，超純水設(shè)備用超純水制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象 （≥18MΩ.CM）（傳統(tǒng)工藝）
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）（工藝）
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）（工藝）
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）（工藝）
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）（傳統(tǒng)工藝）
四、部分產(chǎn)品規(guī)格：
注：本公司產(chǎn)品均可按照客戶要求量身訂做，如客戶對(duì)產(chǎn)品有任何疑問(wèn)或要求請(qǐng)及時(shí)；
五、產(chǎn)品特點(diǎn)：
設(shè)計(jì)科學(xué)合理，機(jī)體小巧，性能*，設(shè)備占地面積小，安全環(huán)保
進(jìn)水自動(dòng)聯(lián)鎖控制；
高低壓緩沖保護(hù)膜保護(hù)；
設(shè)備節(jié)水裝置；
前處理自動(dòng)沖洗功能；
純水主機(jī)自動(dòng)、手動(dòng)沖洗；
純水設(shè)備在線手動(dòng)藥物清洗；
液位自動(dòng)控制系統(tǒng)運(yùn)行工作；
設(shè)有在線水質(zhì)檢測(cè)儀表，水質(zhì)超標(biāo)報(bào)警；
可根據(jù)用戶要求設(shè)定其它功能。
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