儀器技術(shù)指標(biāo)：
· 恒電位槽壓：±30 V(可擴(kuò)展至±60 V)
· 輸出電流：±250 mA(可擴(kuò)展至±1.0 A)
· 恒電位控制：±12 V(動(dòng)態(tài)掃描范圍13 V)
· 分辨率：10.0 μV
· 電流靈敏度：1 nA/V～100 mA/V
· 參比電極輸入阻抗: 1012 W
· 快速數(shù)據(jù)采集： 16位分辨@1MHz
· CV和LSV掃描速度：0.000001V/s至10,000V/s
· 掃描時(shí)的電位增量：0.1mV(當(dāng)掃速為1,000V/s時(shí))
· CA和CC的脈沖寬度：0.0001至1000sec
· CA和CC的小采樣間隔：1ms
· CC模擬積分器
· DPV和NPV的脈沖寬度：0.001至10sec
· SWV頻率：1至100kHz
· i-t的小采樣間隔：1ms
· ACV頻率范圍：0.1至10kHz
· SHACV頻率范圍：0.1至5kHz
· FTACV頻率范圍：0.1至50Hz，可同時(shí)獲取基波，二次諧波，三次諧波，四次諧波，五次諧波，六次諧波的ACV數(shù)據(jù)
· 交流阻抗：0.00001至1MHz
· 交流阻抗波形幅度：0.00001V至0.7V均方根值
儀器系統(tǒng)功能：
控制功能
· 電化學(xué)工作站接口方式：USB2.0接口
· 電位控制：恒電位、線性掃描、循環(huán)掃描、單電位階躍、多電位階躍、脈沖、方波、交流波等；
· 電流控制：恒電流、單電流階躍、線性電流掃描、循環(huán)電流掃描、多電流階躍等；
· 開(kāi)路電位及電位差測(cè)量；
· 外設(shè)控制：攪拌、除氧、旋轉(zhuǎn)電極、滴汞電極等；
· 電極預(yù)處理、后處理等；
· 實(shí)時(shí)顯示電位、電流、時(shí)間的數(shù)值以及它們之間的圖示關(guān)系?？v橫坐標(biāo)軸仿觸摸式的靈活縮放移動(dòng)等操作。
2．實(shí)驗(yàn)方法
· 計(jì)時(shí)電流法、循環(huán)計(jì)時(shí)電流法、計(jì)時(shí)庫(kù)侖法、線性掃描伏安法、循環(huán)伏安法、脈沖極譜(伏安)法、方波伏安法、循環(huán)方波伏安法、交流伏安法、各種溶出伏安法、恒電位極化、塔菲爾曲線等；
· 計(jì)時(shí)電位法、多階躍計(jì)時(shí)電位法、線性電流掃描計(jì)時(shí)電位法、循環(huán)計(jì)時(shí)電位法、恒電流電解等；
· 電化學(xué)阻抗測(cè)量：20種阻抗數(shù)據(jù)處理方法，包括三維阻抗圖譜。
3．?dāng)?shù)據(jù)處理
· 濾波平滑：均值法、小二乘法、傅立葉變換法等；
· 常規(guī)數(shù)學(xué)運(yùn)算；
· 數(shù)據(jù)插值、分割等；
· 微積分及半微積分等；
· 高級(jí)可視化基線處理；
· 峰電流、峰電位及峰面積等高級(jí)可視化峰分析；
· 高級(jí)可視化標(biāo)準(zhǔn)曲線分析等；
· 電化學(xué)阻抗數(shù)據(jù)的各種處理方法及三維阻抗譜圖的繪制等。
4．?dāng)?shù)據(jù)交換與文件
· 使用XML為內(nèi)置數(shù)據(jù)格式，為任何數(shù)據(jù)交換提供基礎(chǔ)；
· 多線程協(xié)同工作模式，集成多序列數(shù)據(jù)、多實(shí)驗(yàn)、多圖形、電子數(shù)據(jù)表格于一體的項(xiàng)目式管理；
· 可通過(guò)文件和剪貼板輸出各種格式的數(shù)據(jù)和圖形，包括豐富文本rtf、文本txt、位圖bmp、圖元文件wmf等。
